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电解清洗剂和金属的清洗方法 

申请/专利权人:日华化学(中国)有限公司

申请日:2020-09-10

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN112481691B

主分类号:C25F1/04

分类号:C25F1/04

优先权:["20190912 JP 2019-166259"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2022.08.16#专利申请权的转移;2022.06.21#实质审查的生效;2021.03.12#公开

摘要:本发明涉及电解清洗剂和金属的清洗方法。所述电解清洗剂含有碱剂和下述通式1表示的化合物。[式1中,A11O和A12O各自独立地表示碳数2或3的亚烷氧基,分子内多个存在的A11O和A12O可以相同或不同,n1和n2表示上述亚烷氧基的平均加成摩尔数,为1~5的整数,R11表示碳数4~22的直链或支链状的饱和或不饱和的脂族烃基,R12表示碳数7~9的芳烷基或下述通式I表示的1价有机基团,X‑表示1价阴离子。‑A13On3‑HI{式I中,A13O表示碳数2或3的亚烷氧基,分子内多个存在的A13O可以相同或不同,n3表示上述亚烷氧基的平均加成摩尔数,为1~5的整数}]。

主权项:1.电解清洗剂,其含有碱剂和下述通式1表示的化合物, 式1中,A11O和A12O各自独立地表示碳数2或3的亚烷氧基,分子内多个存在的A11O和A12O可以相同或不同,n1和n2表示上述亚烷氧基的平均加成摩尔数,为1~5的整数,R11表示碳数4~22的直链或支链状的饱和或不饱和的脂族烃基,R12表示碳数7~9的芳烷基或下述通式I表示的1价有机基团,X-为卤离子或烷基苯磺酸根离子,-A13On3-HI式I中,A13O表示碳数2或3的亚烷氧基,分子内多个存在的A13O可以相同或不同,n3表示上述亚烷氧基的平均加成摩尔数,为1~5的整数;在化合物1中,亚乙氧基的含量相对于化合物1具有的亚烷氧基的加成摩尔的合计为30mol%以上;相对于碱剂100质量份,清洗剂中的化合物1的含量为0.20~15质量份;碱剂为碱金属的氢氧化物和碱金属的硅酸盐;清洗液中含有的碱剂的含量以清洗液的总量为基准,为0.50~10质量%。

全文数据:

权利要求:

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