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一种基于空间光调制的纳米精度荧光成像装置和方法 

申请/专利权人:华侨大学;宁波五维检测科技有限公司

申请日:2022-06-13

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN115015200B

主分类号:G01N21/64

分类号:G01N21/64;G01N21/01

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2022.09.23#实质审查的生效;2022.09.06#公开

摘要:本发明提供一种基于空间光调制的纳米精度荧光成像装置,其特征在于,所述基于空间光调制的纳米精度荧光成像装置包括激发模块、激活模块、成像模块,其中激发模块、激活模块含有单个微元可调的空间光调制器,激发模块整形出射的激发光线与激活模块整形出射的激活光线合并,得到合并光线,合并光线经放大后以纳米尺寸照射到样品上并通过成像模块进行成像;本发明提供的装置实现无机械运动、无激光扫描的新型激光光斑调制,能够分辨单个荧光分子或者亚细胞精细结构,大幅降低了荧光成像装置的复杂度,提高了定位和成像效率。

主权项:1.一种基于空间光调制的纳米精度荧光成像装置,其特征在于,所述基于空间光调制的纳米精度荧光成像装置包括激发模块、激活模块、成像模块,其中激发模块、激活模块含有单个微元可调的空间光调制器,激发模块整形出射的激发光线与激活模块整形出射的激活光线合并,得到合并光线,合并光线经放大后以纳米尺寸照射到样品上并通过成像模块进行成像;其中,所述激发模块按照光路传播方向,依次包含:激光光源Ⅰ、扩束镜Ⅰ、均匀光透镜组Ⅰ、聚焦透镜Ⅰ、全内反射透镜Ⅰ、空间光调制器Ⅰ;扩束镜Ⅰ用于对激光光源Ⅰ发出的激发光线进行扩束;均匀光透镜组Ⅰ和聚焦透镜Ⅰ用于会聚激发光线;全内反射透镜Ⅰ将激发光线以特定角度入射到空间光调制器Ⅰ中;空间光调制器Ⅰ对入射的激发光线进行整形并出射;所述激活模块按照光路的传播方向,依次包含:激光光源Ⅱ、扩束镜Ⅱ、均匀光透镜组Ⅱ、聚焦透镜Ⅱ、全内反射透镜Ⅱ、空间光调制器Ⅱ、二向色镜、准直透镜组、滤镜片转盘、物镜、载物台;扩束镜Ⅱ用于对激光光源Ⅱ发出的激活光线进行扩束;均匀光透镜组Ⅱ和聚焦透镜Ⅱ用于会聚激活光线,全内反射透镜Ⅱ激活光线以特定角度入射到空间光调制器Ⅱ中,激活光线经过空间光调制器Ⅱ整形后以特定角度入射到二向色镜上,与激发光线形成合并光线;滤光片转盘将合并光线反射到达物镜;合并光线经由准直透镜组和物镜的放大后以纳米尺寸照射到载物台上的样品上。

全文数据:

权利要求:

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