申请/专利权人:东莞领航电子新材料有限公司
申请日:2024-01-16
公开(公告)日:2024-06-25
公开(公告)号:CN117903702B
主分类号:C09G1/02
分类号:C09G1/02;H01L21/304
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.06.25#授权;2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开
摘要:本申请涉及碳化硅抛光的技术领域,尤其是涉及一种抛光组合物及碳化硅抛光方法。所述抛光组合物包含以下组分:磨料;氧化剂;水;所述磨料为磷酸硼,所述氧化剂为高锰酸盐。本申请的组合物可用于碳化硅抛光,其具有在满足碳化硅抛光要求的同时能大幅降低成本的优点。
主权项:1.一种抛光组合物,其特征在于,所述抛光组合物包含以下组分:0.1-50%磨料;0.1-30%氧化剂;余量为水;所述磨料为磷酸硼,所述氧化剂为高锰酸盐;所述组合物还包含有pH调节剂,所述组合物的pH值范围为1-11。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 东莞领航电子新材料有限公司 一种抛光组合物及碳化硅抛光方法
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