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一种碳化硅MOSFET动态行为分析方法和装置、电子设备、存储介质 

申请/专利权人:南京工业职业技术大学

申请日:2024-04-19

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118259129A

主分类号:G01R31/26

分类号:G01R31/26;G16C20/30

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明公开了一种碳化硅MOSFET动态行为分析方法和装置、电子设备、存储介质,分析方法包括:采集碳化硅MOSFET数据手册中电压和电流的参数值;针对碳化硅MOSFET,建立漏极电流关于栅源电压和漏源电压的多项式;采用精英遗传智能优化算法提取多项式中变量的最优值,建立碳化硅MOSFET静态行为;通过描点的方式提取静态行为中转移特性和输出特性;在输出特性与转移特性的基础上,结合电气参数利用双脉冲电路获取MOSFET动态行为。本发明的技术方案能够准确表征碳化硅MOSFET动态开关行为,无需获取MOSFET内部结构且避免标准环境测试,提高了动态行为分析效率,且具有较高的经济效益。

主权项:1.一种碳化硅MOSFET动态行为分析方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:采集碳化硅MOSFET数据手册中电压和电流的参数值;步骤2:针对碳化硅MOSFET,建立漏极电流关于栅源电压和漏源电压的多项式;步骤3:采用精英遗传智能优化算法提取所述多项式中变量的最优值,建立碳化硅MOSFET静态行为;步骤4:通过描点的方式提取静态行为中转移特性和输出特性;步骤5:在输出特性与转移特性的基础上,结合电气参数利用双脉冲电路获取碳化硅MOSFET动态行为。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 南京工业职业技术大学 一种碳化硅MOSFET动态行为分析方法和装置、电子设备、存储介质

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