申请/专利权人:应用材料公司
申请日:2023-04-06
公开(公告)日:2024-07-09
公开(公告)号:CN221290866U
主分类号:B24B49/00
分类号:B24B49/00;B24B37/34
优先权:["20221027 US 63/420,033"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.07.09#授权
摘要:一种化学机械抛光装置具有:压板,所述压板支撑抛光垫;载体头,所述载体头包括刚性外壳并被配置为将基板的表面固持抵靠所述抛光垫;电动机,所述电动机用于产生在所述压板与所述载体头之间的相对运动,以便抛光所述基板;原位载体头监测系统,所述原位载体头监测系统包括传感器,所述传感器被定位成与所述外壳相互作用并且检测所述外壳的振动运动并基于检测到的振动运动来生成信号;以及控制器。所述控制器被配置为基于从所述原位载体头监测系统接收的信号来生成载体头状态参数的值,以及基于所述载体头状态参数来改变抛光参数或生成警报。
主权项:1.一种化学机械抛光装置,其特征在于,所述化学机械抛光装置包括:压板,所述压板支撑抛光垫;载体头,所述载体头包括刚性外壳,所述载体头被配置为将基板的表面固持抵靠所述抛光垫;电动机,所述电动机产生在所述压板与所述载体头之间的相对运动,以便抛光所述基板;原位载体头监测系统,所述原位载体头监测系统包括传感器,所述传感器被定位成与所述外壳相互作用并且检测所述外壳的振动运动并基于检测到的振动运动来生成信号。
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