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含碘碳膜的沉积 

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申请/专利权人:乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司

摘要:一种用于在基底材料上沉积含碘膜的方法包括:将该基底材料暴露于成膜组合物的蒸气中,该成膜组合物包含具有式CaHxIyFz的含碘前体,其中a=1‑10,x0,y1,z0,x+y+z=a、2a或2a+2;前提是当a=1,x=2并且z=0时,y不等于2,并且通过气相沉积法在该基底材料上沉积由该含碘前体形成的该含碘膜。该方法进一步包括将该基底材料暴露于共反应物含氮分子的蒸气中,该共反应物含氮分子具有通式CxHyFzNHa,其中x=1‑6,y=0‑13,z=0‑13并且a=1‑2,或CxHyFzN‑R1,其中x=1‑6,y=0‑13,z=0‑13,并且R1是C1‑C5烃。

主权项:1.一种用于在基底材料上沉积含碘膜的方法,该方法包括:a将该基底材料暴露于成膜组合物的蒸气中,该成膜组合物包含具有式CaHxIyFz的含碘前体,其中a=1-10,x≥0,y≥1,z≥0,x+y+z=a、2a或2a+2;前提是当a=1,x=2并且z=0时,y不等于2;以及b通过气相沉积法在该基底材料上沉积由该含碘前体形成的该含碘膜。

全文数据:

权利要求:

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