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等离子体刻蚀设备 

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申请/专利权人:无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司

摘要:本发明属于半导体技术领域,公开了等离子体刻蚀设备,其包括机壳、承载盘、腔盖、注气管路以及灭弧组件。机壳内具有反应腔;承载盘设置于反应腔内以用于承载晶圆;腔盖设置于机壳并用于封闭反应腔;注气管路一端与腔盖的注气孔连通,另一端与气源连通;灭弧组件设置于注气管路并具有多个灭弧支路,多个灭弧支路依次连通且沿分别沿不同方向延伸,相邻两个所述灭弧支路的连通处呈折角过渡形成具有多个拐点的灭弧通道。以此该等离子体刻蚀设备在使用时,能够有效减少电弧产生的可能性,且能够抑制已产生的电弧,从而有效减少工艺气体在输送过程中被电离启辉的可能性,确保工艺气体正常输送的同时,也能够确保对晶圆刻蚀的稳定性和精度均符合要求。

主权项:1.等离子体刻蚀设备,其特征在于,包括:机壳1,所述机壳1内具有反应腔;承载盘2,设置于所述反应腔内以用于承载晶圆;腔盖3,设置于所述机壳1并用于封闭所述反应腔;注气管路4,一端与所述腔盖3的注气孔连通,另一端与气源连通;灭弧组件5,设置于所述注气管路4并具有多个灭弧支路51,多个所述灭弧支路51依次连通且沿分别沿不同方向延伸,相邻两个所述灭弧支路51的连通处呈折角过渡以形成具有多个拐点的灭弧通道。

全文数据:

权利要求:

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