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包括用于远紫外光源的将未滤波的不期望波长的影响最小化的光学装置的辐射生成系统 

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申请/专利权人:昕诺飞控股有限公司

摘要:本发明涉及包括辐射单元2的辐射生成系统1,其中辐射单元2包括光源3、第一准直器4和光学装置5。光源3被配置为生成具有第一光谱功率分布的光源辐射100,第一光谱功率分布在第一波长λ1处具有强度I1,1,并且在第二波长λ2处具有强度I1,2。第一准直器4被配置为与光源3呈光接收关系,其中第一准直器4被配置为将光源辐射100准直为具有初始空间光分布ISLD的准直光源辐射101。光学装置5被布置在第一准直器4的下游,并且包括光学滤波器6和漫射器7。当以预定义角度θ被照射时,光学滤波器6针对第一波长λ1具有比针对第二波长Xi高的透射率。第一波长Xi选自190nm‑230nm的范围,并且第二波长Xi选自100nm‑190nm和或230nm‑300nm的范围。光学滤波器6被配置为将准直光源辐射101的至少一部分滤波成滤波辐射102,该经滤波辐射包括第一波长Xi的光源辐射100的具有第一空间光分布SLD1的至少一部分,并且包括第二波长λ2的光源辐射100的具有第二空间光分布SLD2的至少一部分,第二空间光分布不同于第一空间光分布SLD1。漫射器7被配置在光学滤波器6的下游。漫射器7被配置为将滤波辐射102的至少一部分漫射为漫射辐射103,该漫射辐射包括第一波长λ1的光源辐射100的具有第三空间光分布SLD3的至少一部分,并且包括第二波长λ2的光源辐射100的具有第四空间光分布SLD4的至少一部分,第四空间光分布不同于第二空间光分布SLD2。

主权项:1.一种辐射生成系统1,包括辐射单元2,其中所述辐射单元2包括光源3、第一准直器4和光学装置5,其中:所述光源3被配置为生成光源辐射100,所述光源辐射具有第一光谱功率分布,所述第一光谱功率分布在第一波长λ1处具有强度I1,1,并且在第二波长λ2处具有强度I1,2;所述第一准直器4被配置为与所述光源3呈光接收关系,其中所述第一准直器4被配置为:将所述光源辐射100准直为准直光源辐射101,所述准直光源辐射具有初始空间光分布ISLD;所述光学装置5被布置在所述第一准直器4的下游,并且包括光学滤波器6和漫射器7,其中:当以预定义角度θ被照射时,所述光学滤波器6针对所述第一波长λ1具有比针对所述第二波长λ2高的透射率;所述第一波长λ1选自190nm至230nm的范围,并且所述第二波长λ2选自100nm至190nm和或230nm至300nm的范围;所述光学滤波器6被配置为:将所述准直光源辐射101的至少一部分滤波成经滤波辐射102,所述经滤波辐射包括:所述第一波长λ1的所述光源辐射100的具有第一空间光分布SLD1的至少一部分、以及所述第二波长λ2的所述光源辐射100的具有第二空间光分布SLD2的至少一部分,所述第二空间光分布不同于所述第一空间光分布SLD1;所述漫射器7被配置在所述光学滤波器6的下游;所述漫射器7被配置为:将所述经滤波辐射102的至少一部分漫射成经漫射辐射103,所述经漫射辐射103包括:所述第一波长λ1的所述光源辐射100的具有第三空间光分布SLD3的至少一部分、以及所述第二波长λ2的所述光源辐射100的具有第四空间光分布SLD4的至少一部分,所述第四空间光分布不同于所述第二空间光分布SLD2,并且其中所述辐射生成系统1还包括第二准直器8,所述第二准直器8被布置在所述漫射器7的下游;其中所述第二准直器8是反射准直器,所述反射准直器被配置为:将所述漫射辐射103准直成装置辐射104,所述装置辐射104具有比所述漫射辐射窄的空间光分布。

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