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申请/专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
摘要：本发明提供了一种钴靶材EBSD检测的制样方法，所述制样方法包括将钴靶材切割成钴靶块；对所述的钴靶块依次进行第一研磨、第二研磨、第三研磨和抛光处理，得到抛光靶材；对所述的抛光靶材依次进行腐蚀处理、冲洗处理和吹干处理，完成钴靶材EBSD检测的制样。在本发明中，制样方法操作简单，能够实现对钴靶材的制样，样品表面光滑平坦，无明显划痕和过度腐蚀，保证所制样品用于EBSD检测时所得图像的清晰度，EBSD检测时标定率较高，可达90％，结果准确，适合推广。
主权项：1.一种钴靶材EBSD检测的制样方法，其特征在于，所述制样方法包括：1将钴靶材切割成钴靶块；2对步骤1所述的钴靶块依次进行第一研磨、第二研磨、第三研磨和抛光处理，得到抛光靶材；3对步骤2所述的抛光靶材依次进行腐蚀处理、冲洗处理和吹干处理，完成钴靶材EBSD检测的制样。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种钴靶材EBSD检测的制样方法
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