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申请/专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司
摘要：本发明公开了一种纳米压印晶圆生产的质量管理方法，属于质量检测技术领域，包括以下步骤：S1、采集晶圆的表面压印图像，生成总像素指标；S2、根据总像素指标，对表面压印图像进行遍历，确定遍历结果；S3、基于遍历结果，生成表面压印图像的检测结果。本发明可以有效发现纳米压印生成过程中晶圆的缺陷，提高纳米压印生产的质量。
主权项：1.一种纳米压印晶圆生产的质量管理方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、采集晶圆的表面压印图像，生成总像素指标；S2、根据总像素指标，对表面压印图像进行遍历，确定遍历结果；S3、基于遍历结果，生成表面压印图像的检测结果；所述S1包括以下子步骤：S11、采集晶圆的表面压印图像，为表面压印图像的每一行提取分布像素集合；S12、根据每一行的分布像素集合，为表面压印图像生成总分布区间；S13、根据表面压印图像的总分布区间，生成总像素指标；所述S11中，表面压印图像中第t行的分布像素集合的表达式为：；式中，γt,1为表面压印图像中第t行中第1个像素点的像素值，γt,2为表面压印图像中第t行中第2个像素点的像素值，γt,3为表面压印图像中第t行中第3个像素点的像素值，γt,4为表面压印图像中第t行中第4个像素点的像素值，γt,G为表面压印图像中第t行中第G个像素点的像素值，k为任意正数，G为表面压印图像的列数；所述S12中，总分布区间的上限Zmax的计算公式为：；式中，wt_max为表面压印图像中第t行的分布像素集合中最大值，wt_min为表面压印图像中第t行的分布像素集合中最小值，wt_mid为表面压印图像中第t行的分布像素集合的中位数，wt_mix为表面压印图像中第t行的分布像素集合中所有元素的总和，T为表面压印图像的行数，max·为最大值运算；所述S12中，总分布区间的下限Zmin的计算公式为：；式中，min·为最小值运算；所述S13中，总像素指标σ的计算公式为：；式中，P（Zmax,Zmin）为表面压印图像中像素点的像素值属于总分布区间的概率，γmax为表面压印图像的最大像素值，Zmax为总分布区间的上限，Zmin为总分布区间的下限。
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权利要求：
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