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申请/专利权人：神光光学集团有限公司;四川神光新材料有限公司
摘要：本实用新型提供了一种用于轴向气相沉积（VAD）制备熔石英玻璃的沉积炉温场监测系统。目的是解决现有技术中通过人裸眼观察火焰流动和二氧化硅颗粒沉积，导致精确度较差，沉积质量难以保持稳定的技术问题。该温场监测系统包括：窗口，设于沉积炉上；红外热成像仪，活动设于窗口外部，且与窗口之间存在间距，红外热成像仪的探测端正对沉积炉内；监控服务器，与红外热成像仪电性连接；警报器，与监控服务器电性连接。该温场监测系统通过红外热成像仪探测沉积炉内的温度，将数据传输至监控服务器，并与预先设置在监控服务器内的阈值进行对比，当红外热成像仪所测得的数据不在阈值范围内时，通过警报器进行报警。
主权项：1.一种VAD沉积炉温场监测系统，其特征在于，包括：窗口，设于所述沉积炉上；红外热成像仪，活动设于所述窗口外部，且与所述窗口之间存在间距，所述红外热成像仪的探测端正对所述沉积炉内，用于接受沉积炉内的热辐射信号；监控服务器，与所述红外热成像仪电性连接；警报器，与所述监控服务器电性连接。
全文数据：
权利要求：
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