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申请/专利权人：光驰半导体技术(上海)有限公司
摘要：本发明涉及沉积镀膜技术领域，提供了一种原子层沉积镀膜设备，包括机架，在机架上开设有容纳腔，所述容纳腔的一侧开口设置，在容纳腔内设置有用于盛放基片的基片架，在容纳腔的底部滑动设置有运载板，所述基片架设置于运载板的顶部，在机架上设置有转运组件，所述转运组件用于带动运载板朝向靠近或远离机架的方向移动，在机架上设置有限位件，所述限位件用于限定基片架在机架上的位置，本发明能够提高对基片架搬运的便捷性，降低搬运的安全风险，减少产品受到污染的风险。
主权项：1.一种原子层沉积镀膜设备，其特征在于：包括机架（1），在机架（1）上开设有容纳腔（11），所述容纳腔（11）的一侧开口设置，在容纳腔（11）内设置有用于盛放基片的基片架（12），在容纳腔（11）的底部滑动设置有运载板（13），所述基片架（12）设置于运载板（13）的顶部，在机架（1）上设置有转运组件（2），所述转运组件（2）用于带动运载板（13）朝向靠近或远离机架（1）的方向移动，在机架（1）上设置有限位件（3），所述限位件（3）用于限定基片架（12）在机架（1）上的位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 光驰半导体技术(上海)有限公司 一种原子层沉积镀膜设备
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