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控制表面清洁设备的方法及表面清洁设备 

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申请/专利权人:北京顺造科技有限公司

摘要:本公开提供一种控制表面清洁设备的方法,其包括:判断表面清洁设备的第一第二清洁介质存储器内的第一清洁介质的量是否大于等于第一第二预设值;当第一清洁介质存储器内的第一清洁介质的量大于等于第一预设值,以及第二清洁介质存储器内的第二清洁介质的量大于等于第二预设值时,允许表面清洁设备工作在泡沫清洁模式;以及当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式,判断表面清洁设备是否接收到第一模式切换信号;当接收到第一模式切换信号时,根据第一模式切换信号控制表面清洁设备在第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间切换。本公开还提供一种表面清洁设备、电子设备及可读存储介质。

主权项:1.一种控制表面清洁设备的方法,其特征在于,所述表面清洁设备包括:把手部、第一清洁介质存储器、第二清洁介质存储器、第三清洁介质存储器、主体部、清洁基部、流体分配系统;所述第一清洁介质存储器用于存储第一清洁介质,所述第二清洁介质存储器用于存储第二清洁介质;所述第三清洁介质存储器用于存储第三清洁介质;所述主体部的下端通过连接部与清洁基部连接;以便允许主体部相对于清洁基部沿着第一方向和第二方向进行转动;所述流体分配系统包括清洁介质输出口,其中,所述第一清洁介质存储器将其存储的第一清洁介质通过流体分配系统以泡沫的形式施加至清洁基部;所述第二清洁介质存储器将其存储的第二清洁介质通过流体分配系统以泡沫的形式施加至清洁基部和或施加至清洁基部附近的待清洁表面;其中,当用户操作把手部时,使得主体部处于倾斜的状态或者直立的状态;所述控制表面清洁设备的方法包括:表面清洁设备接收开关机信号,并通过该开关机信号使得表面清洁设备处于开机状态;判断表面清洁设备的第一清洁介质存储器内的第一清洁介质的量是否大于等于第一预设值,以及判断表面清洁设备的第二清洁介质存储器内的第二清洁介质的量是否大于等于第二预设值;当第一清洁介质存储器内的第一清洁介质的量大于等于第一预设值,以及第二清洁介质存储器内的第二清洁介质的量大于等于第二预设值时,允许表面清洁设备工作在泡沫清洁模式;判断第三清洁介质存储器内所存储的第三清洁介质的量是否大于等于第三预设值,当第三清洁介质的量大于等于第三预设值时,允许表面清洁设备工作在液体清洁模式;当表面清洁设备处于工作状态,判断表面清洁设备是否接收到第二模式切换信号,当表面清洁设备接收到第二模式切换信号时,根据第二模式切换信号控制表面清洁设备在泡沫清洁模式和液体清洁模式之间切换;以及当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式,判断表面清洁设备是否接收到第一模式切换信号;当接收到第一模式切换信号时,根据第一模式切换信号控制表面清洁设备在第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间切换,其中,所述泡沫清洁模式包括第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式。

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