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申请/专利权人：上海高笙集成电路设备有限公司

摘要：本发明提供了一种旋转水洗式半导体尾气处理系统的处理工艺，包括以下步骤：S1.半导体尾气从进气口进入，在主板挡板的阻挡下，尾气气流分散，进入主腔体；S2.喷水组件与旋转十字架固定座滑动旋转连接，主腔体内的尾气实现动态旋转水洗；S3.尾气依次经过第一过滤网、第二过滤网进行过滤；S4.最后通过后段过滤板进一步过滤，由出气管排出；S5.清洗完半导体尾气的废水依次经过第一过滤网、鲍尔环和第二过滤网，过滤后流入下腔体内的储水箱；S6.储水箱内的水在磁力泵的作用下抽吸并循环水，通过中间回水管送至上端的喷水组件对尾气进行清洗。本发明提供的一种旋转水洗式半导体尾气处理系统的处理工艺，实现了动态清洗尾气，提高了水洗效果，节约了水资源。

主权项：1.一种旋转水洗式半导体尾气处理系统的处理工艺，其特征在于，所述尾气处理系统包括进气口1、主板挡板2、主腔体3、第一过滤网4、第二过滤网5、下腔体6、出气管7、旋转十字架固定座8、喷水组件9、循环水通水箱17、溢流口管18和液位侦测口19，所述主板挡板2位于主腔体3内，其正对进气口1且与进气口1具有一定间隙；所述第一过滤网4和第二过滤网5依次设置于主腔体3内，所述第一过滤网4设置于第二过滤网5的上方，所述下腔体6设置于主腔体3的下方，所述出气管7连接主腔体3的侧面；所述旋转十字架固定座8设置于主板挡板2的下方，所述喷水组件9与旋转十字架固定座8滑动旋转连接；所述循环水通水箱17、溢流口管18均设置于主腔体3内且位于第二过滤网5的上方；所述液位侦测口19设置于主腔体3的外壁；所述处理工艺包括以下步骤：S1.气流分散：半导体尾气以一定的气流速度从进气口1进入，在主板挡板2的阻挡下，尾气气流分散，进入主腔体3；S2.旋转水洗：所述喷水组件9与旋转十字架固定座8滑动旋转连接，主腔体3内的半导体尾气在喷水组件9喷出的水的作用下，实现动态旋转水洗；S3.双层过滤：水洗后的半导体尾气依次经过第一过滤网4、第二过滤网5进行过滤；S4.后段过滤：经过第一过滤网4和第二过滤网5过滤后的尾气，最后通过后段过滤板16进一步过滤，由出气管7排出；S5.废水过滤：清洗完半导体尾气的废水依次经过第一过滤网4和第二过滤网5，经循环水通水箱17的过滤孔过滤后流入下腔体6内的储水箱；液位侦测口19内置的液位传感器可以实时监测主腔体3内的废水的水位高度，当废水的水位高度高于溢流口管18，液位传感器检测到液面位置传递信号至控制器，控制器开启溢流口管18的入口，废水经溢流口管18流入下腔体6内的储水箱；S6.废水循环利用：储水箱内的水在磁力泵21的作用下抽吸并循环水，通过中间回水管14送至上端的喷水组件9对尾气进行清洗。

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