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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：基板处理方法包括准备基板的工序、以及进行基板的蚀刻处理的工序。在准备基板的工序中，准备具有层叠膜的基板，该层叠膜包括膜厚不同的多个硅氧化膜。在进行基板的蚀刻处理的工序中，用添加了盐酸的蚀刻液进行基板的蚀刻处理。
主权项：1.一种基板处理方法，包括以下工序：准备具有层叠膜的基板，该层叠膜包括膜厚不同的多个硅氧化膜；以及用添加了盐酸的蚀刻液进行所述基板的蚀刻处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理方法和基板处理装置
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