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一种稳定性高的铜层抛光液及其制备方法 

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申请/专利权人:深圳市朗纳研磨材料有限公司

摘要:本发明公开了一种稳定性高的铜层抛光液及其制备方法,涉及铜层抛光液技术领域,包括搅拌器,所述搅拌器包括搅拌箱,所述搅拌箱的顶部设置有搅拌电机,且搅拌电机的底部连接有搅拌轴,所述搅拌箱的顶面开设有进料口。该稳定性高的铜层抛光液及其制备方法,投料时搅拌电机带动搅拌轴缓速转动以稳定进行接收原料,而在搅拌搅拌箱底部的原料时搅拌轴转速加快,此时分料环盒转速也随之加快导致其抖动频率也更频繁,而抖动频率的频繁化会加强对原料的抖动效果以增强防堆积效果,其次分料室内部的原料在旋转作用下均匀洒落至搅拌箱内部各位置,而原料均匀分布于搅拌箱各部位以加快各原料混合速度,以缩短铜层抛光液的制备流程。

主权项:1.一种稳定性高的铜层抛光液,其特征在于:所述稳定性高的铜层抛光液按重量百分比包括下述成分:去离子水:80-85%;30%浓度的过氧化氢:3-5%;柠檬酸:0.5-1%;苯并三唑:0.1-0.3%;二氧化硅研磨颗粒:1-3%;乙二胺四乙酸:0.2-0.5%;聚乙烯吡咯烷酮:0.1-0.3%;氨水;其中氨水用于进行pH调节,而二氧化硅研磨颗粒的粒径平均为50nm。

全文数据:

权利要求:

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