龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本申请提供一种改善晶圆侧面成膜的装置，涉及半导体设备技术领域，包括工艺腔，工艺腔内设置有加热盘，加热盘上用于设置晶圆，加热盘的上方还设置有喷淋上板，通过喷淋上板朝向晶圆的上方通入工艺气体以用于在晶圆的表面成膜，加热盘的侧面设置有阻隔结构，以用于阻隔工艺气体接触晶圆的侧面，避免在晶圆的侧面成膜。阻隔结构的作用是阻止工艺气体接触晶圆侧面，这样一来，可以避免由于工艺气体接触晶圆侧面而在晶圆侧面成膜的情况，降低了晶圆侧面成膜的概率，改善了现有技术由于在晶圆侧面成膜导致的晶圆本身的洁净度，以及长期工艺累积产生的工艺腔、后续传送通道的洁净度的问题，提高了晶圆整体工艺的稳定性，保证了晶圆的工艺质量。
主权项：1.一种改善晶圆侧面成膜的装置，其特征在于，包括：工艺腔，所述工艺腔内设置有加热盘，所述加热盘上用于设置晶圆，所述加热盘的上方还设置有喷淋上板，通过所述喷淋上板朝向所述晶圆的上方通入工艺气体以用于在所述晶圆的表面成膜，所述加热盘的侧面设置有阻隔结构，以用于阻隔所述工艺气体接触所述晶圆的侧面，避免在所述晶圆的侧面成膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 一种改善晶圆侧面成膜的装置
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号