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一种发光二极管外延片制备方法及外延片 

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申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司

摘要:本发明公开一种发光二极管外延片制备方法及外延片,在氩气作为载气的条件下生长第一子层,由于氩气具有较大的原子质量,能够提供更高的动量,提高Al原子的横向迁移效率,促进第一子层横向生长,能够降低第一子层以及后续生长的第二子层的表面粗糙度和缺陷密度,提高晶体质量;但是由于第一子层的生长速率较快,容易产生刃位错,通过设置氢气作为载气生长第二子层,由于氢气的分子质量较低,在生长时分子运动活性强,对结晶质量较差的晶体具有刻蚀和重结晶的作用,有助于减小刃位错,进一步提高晶体质量。

主权项:1.一种发光二极管外延片制备方法,其特征在于,至少包括衬底和叠层结构,所述叠层结构至少包括自下而上设置的多量子阱层、电子阻挡层和P型掺杂AlGaN层,制备P型掺杂AlGaN层包括以下步骤:以氩气作为载气生长第一P型掺杂AlGaN层作为第一子层;在第一子层上以氢气作为载气继续生长第二P型掺杂AlGaN层作为第二子层。

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权利要求:

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