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申请/专利权人：上海精测半导体技术有限公司
摘要：本发明提供一种缺陷检测方法，包括：对样品待检测结构分解以获取多个独立的子线条结构，并建立每一子线条结构相应的莫尔条纹光场图案；将所有子线条结构相应的莫尔条纹光场图案进行组合，得到组合光场图案；将组合光场图案投影至待检测结构的表面，生成结构照明光场；将结构照明光场对准待检测结构，采集待检测结构的远场显微图像；计算远场显微图像与理想远场显微图像的差分图像，基于差分图像判定待检测结构是否存在缺陷。本发明对样品待检测结构进行分解得到子线条结构，并对每一子线条结构设计相应的莫尔条纹光场图案，相比现有的整个待检测结构均设计相同的光场图案，能够更准备检测出待检测结构中的所有的缺陷位置，检测效率也比较高。
主权项：1.一种缺陷检测方法，其特征在于，包括：对样品待检测结构进行分解以获取多个独立的子线条结构，并建立每一子线条结构相应的莫尔条纹光场图案；将所有子线条结构相应的莫尔条纹光场图案进行组合，得到与所述待检测结构自适应的组合光场图案；将所述组合光场图案投影至所述待检测结构的表面，生成与所述待检测结构自适应的结构照明光场，所述结构照明光场包括多个子照明光场，每个所述子照明光场分别与一个所述子线条结构相对应；将所述结构照明光场对准所述待检测结构，采集所述待检测结构位于第一检测位置处的第一远场显微图像；计算所述第一远场显微图像与所述待检测结构的理想远场显微图像的第一差分图像，基于所述第一差分图像判定所述待检测结构是否存在缺陷。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海精测半导体技术有限公司 一种缺陷检测方法
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