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申请/专利权人：商先创国际股份有限公司
摘要：本发明涉及用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备1、系统50和方法100。在此，处理室2被配置成用于接纳至少一个工件载体30。根据本发明，该设备1被配置为用于借助于至少一个能够被该处理室2接纳的工件载体30来加热该处理室2。
主权项：1.一种用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备1，具有用于接纳至少一个工件载体30的处理室2，其特征在于，该设备1被配置为用于借助于至少一个能够被该处理室2接纳的工件载体30来加热该处理室2，所述处理室2具有至少四个接触插针7的电流接口5，所述至少四个接触插针7布置在所述处理室2的后壁6的区域中；所述至少四个接触插针7用于电接触该至少一个能够被接纳的工件载体30，对所述工件载体30的至少两个电路彼此独立地供应电流。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 商先创国际股份有限公司 用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备、系统和方法
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