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用于衬底的环境敏感表面的牺牲性保护层 

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申请/专利权人:朗姆研究公司

摘要:一种用于在处理期间保护衬底的表面的方法包含:a提供溶液,所述溶液形成具有上限温度的共聚物;b将所述溶液分配于所述衬底的表面上,以形成牺牲保护层,其中所述共聚物为动力学捕获的,以使得能在高于所述上限温度的温度下保存;c使所述衬底暴露于周围环境并持续预定时段;以及d通过使用选自由紫外UV光和热所组成的群组的刺激而使所述牺牲保护层解聚合。

主权项:1.一种在处理期间保护衬底的表面的方法,其包含:a提供溶液,所述溶液形成具有上限温度的共聚物;b将所述溶液分配于半导体衬底的敏感表面上,以形成覆盖所述敏感表面的牺牲保护层,其中所述共聚物为动力学捕获的,以使得能在高于所述上限温度的温度下保存;c使所述衬底暴露于周围环境并持续预定时段,其中所述牺牲保护层保护所述半导体衬底的所述敏感表面以免于暴露于周围环境;以及d使所述牺牲保护层暴露于刺激以使所述牺牲保护层解聚合,从而暴露所述半导体衬底的所述敏感表面,并允许对所述半导体衬底进行进一步处理。

全文数据:

权利要求:

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