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申请/专利权人：苏州汉华光电科技有限公司;常熟理工学院
摘要：本实用新型公开了一种自清洁半导体加工用研磨盘支架，包括支架本体，所述支架本体包括放置层和过滤层，所述放置层包括敞口容器，所述敞口容器内设有若干分隔栏，所述分隔栏将所述敞口容器分隔为多个并列排布的放置腔，每个所述放置腔内设有用于喷淋清洗的喷淋头以及用于限制研磨盘位置的限位凸块，所述敞口容器的底面向第一侧倾斜设置并在所述第一侧设置汇流槽，所述汇流槽设有向下的出水口，所述过滤层设置在所述出水口的下方，所述过滤层包括过滤腔体，所述过滤腔体内设有过滤填料，所述过滤腔体上设有排水口，所述出水口排出的水经过所述过滤填料过滤后从所述排水口流出。本实用新型可对研磨盘进行清洁存储，并对清洗水进行粗过滤以重复利用，方便使用。
主权项：1.一种自清洁半导体加工用研磨盘支架，其特征在于，包括支架本体，所述支架本体包括放置层和过滤层，所述放置层包括敞口容器，所述敞口容器内设有若干分隔栏，所述分隔栏将所述敞口容器分隔为多个并列排布的放置腔，每个所述放置腔内设有用于喷淋清洗的喷淋头以及用于限制研磨盘位置的限位凸块，所述敞口容器的底面向第一侧倾斜设置并在所述第一侧设置汇流槽，所述汇流槽设有向下的出水口，所述过滤层设置在所述出水口的下方，所述过滤层包括过滤腔体，所述过滤腔体内设有过滤填料，所述过滤腔体上设有排水口，所述出水口排出的水经过所述过滤填料过滤后从所述排水口流出。
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权利要求：
百度查询： 苏州汉华光电科技有限公司 常熟理工学院 自清洁半导体加工用研磨盘支架
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