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申请/专利权人：大连理工大学;大连理工大学宁波研究院
摘要：本发明属于研磨抛光加工技术领域，提供一种用于KDP晶体的抛光液及高效研磨抛光工艺。所述的抛光液为由磨粒、反应物、添加剂、有机溶剂、去离子水组成的非水基化学机械抛光液。高效研磨抛光工艺包括粗研、精研、抛光、清洗。本发明在研磨阶段通过固结磨料垫表层有效磨粒的微切削作用快速去除线切割产生的宏观加工纹理以及脆性损伤。本发明将研磨分为两个阶段，兼顾研磨效率和表面质量；在抛光阶段，利用抛光液中反应物的化学作用、去离子水的溶解作用、磨粒的机械作用实现对材料的去除，可在低压下快速将晶体表面粗糙度降至纳米级；采用的固结磨料研磨抛光垫，不易造成表面损伤，加工效率高。
主权项：1.一种用于KDP晶体的抛光液，其特征在于，所述的抛光液为由磨粒、反应物、添加剂、有机溶剂、去离子水组成的非水基化学机械抛光液；所述抛光液反应物为KOH、K2CO3、KHCO3中一种或一种以上组合，其在抛光液中的质量比为0.02％-0.10％；其作用是与作为酸式盐的KDP晶体化学反应，在晶体表面形成产物层K2HPO4和K3PO4；所述抛光液磨粒为SiO2、CeO2、TiO2、CuO中一种或一种以上组合；在抛光液中的质量比为0.25％-2.00％；所述抛光液添加剂为氧化石墨烯，在抛光液中的质量比为0.02％-0.20％；所述抛光液中去离子水的作用是及时溶解化学反应后生成的可溶于水难溶于醇的盐类，防止生成物残留在工件表面并逐渐累积而影响抛光质量，在抛光液中的质量比为5％-30％；所述抛光液中无毒有机溶剂作为分散相，避免KDP晶体溶解速率过快产生潮解层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 大连理工大学 大连理工大学宁波研究院 一种用于KDP晶体的抛光液及高效研磨抛光工艺
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