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申请/专利权人：爱发科成膜株式会社
摘要：本发明涉及一种掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法。本发明的掩模坯为具有成为相移掩模的层的掩模坯。掩模坯具有：相移层，层叠于透明基板；蚀刻停止层，设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上；和遮光层，设置在比所述蚀刻停止层更远离所述透明基板的位置上。所述相移层含有铬。所述遮光层含有铬和氧。所述蚀刻停止层含有硅化钼和氮，并且在膜厚方向上靠近所述遮光层的位置上具有氮浓度达到峰值的峰值区域。
主权项：1.一种掩模坯，具有成为相移掩模的层，所述掩模坯具有：相移层，层叠于透明基板；蚀刻停止层，设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上；和遮光层，设置在比所述蚀刻停止层更远离所述透明基板的位置上，所述相移层含有铬，所述遮光层含有铬和氧，所述蚀刻停止层含有硅化钼和氮，并且在膜厚方向上靠近所述遮光层的位置上具有氮浓度达到峰值的峰值区域，所述蚀刻停止层的所述峰值区域中的氮浓度被设定为30原子％以上。
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权利要求：
百度查询： 爱发科成膜株式会社 掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法
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