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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
摘要：本发明提供一种掩膜条及其制备方法、掩膜基板、掩膜板的制备方法。该掩膜条，包括掩膜层，掩膜层具有相对设置的第一侧面和第二侧面，掩膜层中开设有多个第一开口，第二侧面用于蒸镀有机发光材料层；还包括张网图案层，位于掩膜层的第一侧面，张网图案层至少覆盖多个第一开口的第一分布区域；张网图案层中开设有多个凹槽或者多个第二开口，多个凹槽或者多个第二开口的第二分布区域覆盖第一分布区域；多个凹槽或者多个第二开口形状规则且均匀分布。该掩膜条张网精度确保，规避了因掩膜层中第一开口分辨率过高导致第一开口过小影响抓取精度、因掩膜层中第一开口排布间距不等导致无法张网、因掩膜层中第一开口形貌不规则导致张网对应困难的问题。
主权项：1.一种掩膜条，包括掩膜层，所述掩膜层具有相对设置的第一侧面和第二侧面，所述掩膜层中开设有多个第一开口，所述第二侧面用于蒸镀有机发光材料层；其特征在于，还包括张网图案层，位于所述掩膜层的所述第一侧面，所述张网图案层至少覆盖所述多个第一开口的第一分布区域；所述张网图案层中开设有多个凹槽或者多个第二开口，所述多个凹槽或者所述多个第二开口的第二分布区域覆盖所述第一分布区域；所述多个凹槽或者所述多个第二开口形状规则且均匀分布。
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百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 成都京东方光电科技有限公司 掩膜条及其制备方法、掩膜基板、掩膜板的制备方法
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