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申请/专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日：2022-10-18
公开（公告）日：2023-01-13
公开（公告）号：CN115598934A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2023.04.21#实质审查的生效;2023.01.13#公开
摘要：本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种光刻模型构建方法，包括以下步骤：获取部分SRAF图形在晶圆上的实际曝光成像结果；建立初始光刻模型，将图像测量平面与光强阈值作为变量加入初始光刻模型中；将部分SRAF图形代入初始光刻模型进行仿真，并基于不同图像测量平面与光强阈值，得到部分SRAF图形对应的仿真结果；比对仿真结果与实际曝光成像结果，以相似度最高的仿真结果所对应的图像测量平面与光强阈值记为最优仿真点；依据最优仿真点对初始光刻模型进行校准，得到预测光刻模型。本发明还提供一种的预测SRAF图形曝光成像的方法和程序产品，解决了传统OPC光刻模型无法准确预测SRAF曝光成像结果的问题。
主权项：1.一种光刻模型构建方法，其特征在于：包括以下步骤：获取部分SRAF图形在晶圆上的实际曝光成像结果；建立初始光刻模型，将图像测量平面与光强阈值作为变量加入所述初始光刻模型中；将所述部分SRAF图形代入所述初始光刻模型进行仿真，并基于不同图像测量平面与光强阈值，得到所述部分SRAF图形对应的仿真结果；比对所述仿真结果与所述实际曝光成像结果，以相似度最高的仿真结果所对应的图像测量平面与光强阈值记为最优仿真点；依据所述最优仿真点对所述初始光刻模型进行校准，得到预测光刻模型。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳晶源信息技术有限公司 一种光刻模型构建方法、预测SRAF图形曝光成像的方法和程序产品
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