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申请/专利权人：上海八亿时空先进材料有限公司
申请日：2022-09-08
公开（公告）日：2023-06-23
公开（公告）号：CN116284517A
主分类号：C08F110/14
分类号：C08F110/14;C08F210/14;C08F212/14;C08F212/08;C08F220/18;C08F8/04;G03F7/004
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2023.07.11#实质审查的生效;2023.06.23#公开
摘要：本发明公开一种分子量窄分布且高透光性PHS树脂及其合成方法与应用及其合成方法与应用。本发明提供的PHS树脂，包含式I所示的结构通式；本发明还提供PHS树脂的合成方法，其是以单体A、单体B、单体C和单体D为原料通过阴离子共聚得到的。本发明还提供一种光刻胶，其包括成膜树脂；所述成膜树脂包括所述PHS树脂。本发明所述的PHS树脂兼具分子量窄分布、透光性优异、碱溶性好且热稳定性高的优点，有效解决现有光刻胶的灵敏度相对较低、残膜率较高的问题，满足了集成电路行业发展的需求。
主权项：1.一种PHS树脂，包含式I所示的结构通式： 式中：m、n、p、q分别表示重复单元A、重复单元B、重复单元C、重复单元D的聚合度，其中m≥1，n≥1，p≥0且pm+n+p+q≤20％，q≥0；R1表示H、C1-C3的烷基、C1-C3的烷氧基或C3-C10的环烷基；R3表示甲基、乙基、叔丁基、k表示取代基R1的个数，为0～5之间的数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海八亿时空先进材料有限公司 一种分子量窄分布且高透光性PHS树脂及其合成方法与应用
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