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自动设定STB的净化模式的方法以及制造半导体晶片的系统 

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申请/专利权人:细美事有限公司

摘要:本公开提供了自动设定轨道侧方缓冲器STB的净化模式的方法及用于制造半导体晶片的系统,所述方法由包括STB和模式确定单元的用于制造半导体晶片的系统执行,STB包括净化装置,净化装置用于供应惰性气体以排出FOUP的工艺气体,模式确定单元用于确定其中安置有FOUP的STB的净化装置能够被驱动的净化模式,并且所述方法包括:识别与净化装置的配置对应的净化装置的规格;以及根据识别到的净化装置的规格从预定的净化模式中确定可驱动的净化模式。

主权项:1.一种自动设定轨道侧方缓冲器的净化模式的方法,由包括所述轨道侧方缓冲器和模式确定单元的用于制造半导体晶片的系统执行,所述轨道侧方缓冲器包括净化装置,所述净化装置用于供应惰性气体以排出前开式晶片传送盒的工艺气体,所述模式确定单元用于确定其中安置有所述前开式晶片传送盒的所述轨道侧方缓冲器的所述净化装置能够被驱动的净化模式,所述方法包括:识别与所述净化装置的配置对应的所述净化装置的规格;以及根据识别到的所述净化装置的所述规格从预定的净化模式中确定能够进行驱动的净化模式。

全文数据:

权利要求:

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