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一种优化InAs/GaSb红外超晶格的制备方法及InAs/GaSb超晶格 

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申请/专利权人:广州市南沙区北科光子感知技术研究院;北京信息科技大学

摘要:本发明提供了一种优化InAsGaSb红外超晶格的制备方法,包括:对GaSb衬底除气;对GaSb衬底进行脱氧处理;在脱氧处理后的GaSb衬底上,生长GaSb缓冲层;在GaSb缓冲层上,生长InAsGaSb超晶格,其中,InAsGaSb超晶格生长过程按照如下方法控制炉源开关时间:打开Sb炉源的快门6s;同时打开In和Sb炉源的快门0.9s,进行InSb层的生长;关闭Sb炉源快门,同时打开In和As炉源的快门24.2s,进行InAs层的生长;关闭In炉源快门,仅打开As炉源快门6s;同时打开In和Sb炉源快门进行InSb界面层的生长;同时打开Ga和Sb炉源快门,进行GaSb层的外延生长。本发明可有效降低As背景压强扰动对于超晶格生长的影响,精确控制InAs五三比,提高超晶格晶体质量,提高红外探测器件性能。

主权项:1.一种优化InAsGaSb红外超晶格的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:步骤S1、对GaSb衬底除气;步骤S2、对GaSb衬底进行脱氧处理;步骤S3、在脱氧处理后的GaSb衬底上,生长GaSb缓冲层;步骤S4、在GaSb缓冲层上,生长InAsGaSb超晶格,其中,InAsGaSb超晶格生长过程按照如下方法控制炉源开关时间:步骤S41、打开Sb炉源的快门6s;步骤S42、同时打开In和Sb炉源的快门0.9s,进行InSb层的生长;步骤S43、关闭Sb炉源快门,同时打开In和As炉源的快门24.2s,进行InAs层的生长;步骤S44、关闭In炉源快门,仅打开As炉源快门6s;步骤S45、同时打开In和Sb炉源快门进行InSb界面层的生长;步骤S46、同时打开Ga和Sb炉源快门,进行GaSb外延层的外延生长。

全文数据:

权利要求:

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