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申请/专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所
申请日：2022-11-02
公开（公告）日：2024-05-07
公开（公告）号：CN117987782A
主分类号：C23C14/30
分类号：C23C14/30;C23C14/52
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.24#实质审查的生效;2024.05.07#公开
摘要：本发明涉及一种考察PS‑PVD非视线式沉积习性的装置及方法。所述考察PS‑PVD非视线式沉积习性的装置包括：石墨圆柱体，以及分别设置在石墨圆柱体的侧面0°、90°、180°和270°位置的燕尾槽；所述燕尾槽用于插入并固定沉积陶瓷涂层的样品。本发明中，利用该装置在考察样品表面沉积陶瓷涂层后，可直接用于表面和截面的涂层微观形貌分析，对以双联体导向叶片为代表的典型构件遮蔽区的非视线式沉积获取可靠数据，也可为PS‑PVD工艺的高效优化提供了便捷。
主权项：1.一种考察PS-PVD非视线式沉积习性的装置，其特征在于，包括：石墨圆柱体，以及分别设置在石墨圆柱体的侧面0°、90°、180°和270°位置的燕尾槽；所述燕尾槽用于插入并固定沉积陶瓷涂层的样品。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种考察PS-PVD非视线式沉积习性的装置及方法
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