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【发明公布】像素界定层制备方法_德山新勒克斯有限公司_202311323140.8 

申请/专利权人:德山新勒克斯有限公司

申请日:2023-10-13

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN118055647A

主分类号:H10K59/122

分类号:H10K59/122;H10K59/12

优先权:["20221115 KR 10-2022-0152592"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.05.17#公开

摘要:本发明涉及一种可以形成像素界定层图案的组合物及方法,该组合物及方法在电极基板上实现光学密度高的着色图案,从而使颜色变清晰,还使显示器提升可靠性,延长寿命。即,实施后烘处理后,面板的光学密度满足0.80至1.5μm要求,从而提高可见性,改善对比度。

主权项:1.一种像素界定层制备方法,其特征在于:包括:感光性组合物的涂布及涂层;预烘烤;曝光;显影;及后烘处理步骤,实施后烘处理后,涂膜的光学密度为0.80μm~1.5μm,反射率超过0.01%且低于6.5%。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 德山新勒克斯有限公司 像素界定层制备方法

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