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申请/专利权人：德山新勒克斯有限公司
申请日：2023-10-12
公开（公告）日：2024-05-07
公开（公告）号：CN117998910A
主分类号：H10K59/122
分类号：H10K59/122;H10K59/12
优先权：["20221104 KR 10-2022-0145720"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.05.07#公开
摘要：本发明提供一种像素界定层制备方法，该像素界定层制备方法可以防止电极间干扰，以降低面板的触控不良率，该电极间干扰是像素界定层上出现像素不良的原因。具体地，涂膜包括本发明所述的着色剂，实施后烘处理时，通过高温处理而成，该涂膜的单位厚度光学密度Opticaldensity,OD高，即使改变检测Hz，介电率仍然是5.0以下，介电率不仅低，其变化也少。
主权项：1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：包括：感光性组合物的涂布及涂层；预烘烤；曝光；显影；及后烘处理步骤，实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度Opticaldensity,OD为0.8μm～1.3μm，介电率为5.0以下。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 德山新勒克斯有限公司 像素界定层制备方法
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