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申请/专利权人：德山新勒克斯有限公司
申请日：2023-11-22
公开（公告）日：2024-05-31
公开（公告）号：CN118119248A
主分类号：H10K71/40
分类号：H10K71/40;H10K71/00;H10K59/122
优先权：["20221130 KR 10-2022-0165260"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.05.31#公开
摘要：本发明在电极基板上实现具有一定粗糙度值的着色图案，以减少空穴层HTL后道工艺中剥离，还使显示器提高可靠性及延长寿命。即，后烘处理后，图案的粗糙度低时，可能会成为空穴层剥离及像素不良pixeloff导致寿命减少的诱因，因此，根据本发明实施后烘处理时，置于高温，使表面的流动达到最少，以具有一定粗糙度。
主权项：1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：包括：感光性组合物的涂布及涂层；预烘烤；曝光；显影；及后烘处理步骤，实施后烘处理步骤的烤箱温度为230至290℃，后烘处理步骤的实施时间为30分钟至120分钟，实施后烘处理步骤后，表面粗糙度的值为1.48nm至3.0nm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 德山新勒克斯有限公司 像素界定层制备方法
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皖公网安备 34010402703815号