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申请/专利权人：深圳光迪科技有限公司
申请日：2024-03-11
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118151503A
主分类号：G03F9/00
分类号：G03F9/00;G03F7/20;G02B5/18
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.25#实质审查的生效;2024.06.07#公开
摘要：本发明公开了一种基于DMD直写曝光设备的对准系统及方法，系统包括曝光光源、数字微镜装置、硅片、投影物镜、半透半反镜、图像控制器、数字微镜控制模块、图像处理模块。通过利用数字微镜装置可产生图像平滑、精确的优势，使用可直写曝光的数字微镜装置来制备物理光栅，再由同组数字微镜装置产生数字光栅，抵消了数字微镜装置像素间隙和投影物镜倍率公差中带来的误差，减少物料周期和成本。创新地将物理光栅的制作嵌入到曝光流程中，在第一层光刻图案中加入作为光栅标记信息的物理光栅，再投影数字光栅来分别进行粗对准与精对准过程，将硅片的细微位移放大显示在叠栅条纹的光强信息上，在工艺上提高了莫尔条纹精度，同时提升了生成效率。
主权项：1.一种基于DMD直写曝光设备的对准系统，其特征在于，包括：曝光光源，用于发射曝光光束；数字微镜装置，用于接收所述曝光光束以发出物理光栅、数字光栅和多个光刻图案；硅片，放置于工件台上，用于接收所述物理光栅、所述数字光栅和多个所述光刻图案，所述硅片第一层在曝光该层所述光刻图案的同时刻蚀所述物理光栅，所述硅片的其他层在分别曝光其他层所述光刻图案的同时投影所述数字光栅至所述物理光栅上以产生放大莫尔条纹；投影物镜，设置于所述数字微镜装置与所述硅片之间，用于对所述物理光栅、所述数字光栅和多个所述光刻图案进行投影；半透半反镜，设置于所述投影物镜与所述硅片之间，用于透射所述物理光栅、所述数字光栅和多个所述光刻图案，且还用于反射所述放大莫尔条纹；图像控制器，用于接收所述放大莫尔条纹；数字微镜控制模块，与所述数字微镜装置电性连接；图像处理模块，与所述图像控制器电性连接，用于对所述放大莫尔条纹进行图像处理。
全文数据：
权利要求：
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