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申请/专利权人：元平台技术有限公司
申请日：2022-10-27
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118159909A
主分类号：G03F7/022
分类号：G03F7/022;G03F7/023;G02B27/01;G03F7/00;G03F7/40;G06F3/01
优先权：["20211027 US 63/272,519","20221020 US 17/970,439"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.07#公开
摘要：本文的公开涉及用于制造具有均匀或非均匀光栅深度的直的或倾斜的表面浮雕光栅的技术。根据某些实施方案，灰色调光刻胶包括酚醛清漆树脂、重氮萘醌DNQ溶解抑制剂以及一种或多种交联剂，该交联剂用于在升高的温度下使该酚醛清漆树脂交联、以提高灰色调光刻胶的玻璃化转变温度和或降低该灰色调光刻胶的蚀刻速率。在灰色调光曝光和显影后，将灰色调光刻胶在升高的温度下烘烤以进行交联。交联的灰色调光刻胶具有更高的密度和更高的玻璃化转变温度，并且因此在蚀刻期间不会变得可流动而引起波纹或其他表面粗糙度。
主权项：1.一种方法，所述方法包括：在基板上形成图案化蚀刻掩模；在所述图案化蚀刻掩模上沉积光刻胶材料层，所述光刻胶材料层是热交联性的；将所述光刻胶材料层曝光于通过灰度光掩模的曝光光；显影所述经曝光的光刻胶材料层、以形成具有不均匀厚度的图案化光刻胶层；在升高的温度下烘烤所述图案化光刻胶层、以形成经交联的光刻胶层；以及蚀刻所述经交联的光刻胶层和所述基板、以在所述基板中形成表面浮雕光栅。
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