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申请/专利权人：江苏鲁汶仪器股份有限公司
申请日：2022-12-06
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118156106A
主分类号：H01J37/08
分类号：H01J37/08
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.25#实质审查的生效;2024.06.07#公开
摘要：本申请提供了一种离子束刻蚀中的离子栅网结构，该离子栅网结构包括：屏栅和位于屏栅远离放电腔室的一侧的至少一个栅网；屏栅面对放电腔室的一侧设置有倒角。从而通过改变屏栅的形貌改变等离子体鞘层的形貌，可以起到减小屏栅等效栅厚的目的，从而在兼顾屏栅机械强度，保证屏栅厚度的情况下，实现了增加离子栅网结构的离子束流引出能力的目的。
主权项：1.一种离子束刻蚀中的离子栅网结构，其特征在于，包括：屏栅和位于所述屏栅远离放电腔室的一侧的至少一个栅网；所述屏栅面对所述放电腔室的一侧设置有倒角。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏鲁汶仪器股份有限公司 一种离子束刻蚀中的离子栅网结构
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