申请/专利权人：凸版印刷株式会社

申请日：2020-04-23

公开（公告）日：2024-06-07

公开（公告）号：CN113498441B

主分类号：C23C14/04

分类号：C23C14/04;G01N21/956

优先权：["20190426 JP 2019-086570"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.06.07#授权;2022.03.11#实质审查的生效;2021.10.12#公开

摘要：一种蒸镀掩模缺陷原因确定系统，对具有形成有多个孔的基材的蒸镀掩模的缺陷原因进行确定，具备：图像取得部，取得上述蒸镀掩模的摄像图像，该摄像图像包括对包含正常孔部分和不良孔部分的上述多个孔进行摄像而得的多个孔部分以及对多个孔周围的上述基材进行摄像而得的基材部分；第1面积计算部，计算由图像取得部取得的摄像图像中包含的正常孔部分的面积；第2面积计算部，计算由图像取得部取得的摄像图像中包含的不良孔部分的面积；面积比率计算部，计算不良孔部分的面积相对于正常孔部分的面积的比例即面积比率；及缺陷原因确定部，确定不良孔部分的原因，缺陷原因确定部在面积比率为1以上的情况下确定不良孔部分的原因为第1原因或第2原因，在面积比率低于1的情况下确定不良孔部分的原因为并非第1原因及第2原因中的任一方的原因。

主权项：1.一种蒸镀掩模缺陷原因确定系统，对具有形成有多个孔的基材的蒸镀掩模的缺陷原因进行确定，具备：图像取得部，取得上述蒸镀掩模的摄像图像，该摄像图像包括对包含正常孔部分和不良孔部分的上述多个孔进行摄像而得的多个孔部分、以及对上述多个孔周围的上述基材进行摄像而得的基材部分；第1面积计算部，计算由上述图像取得部取得的上述摄像图像中的上述正常孔部分的面积；第2面积计算部，计算由上述图像取得部取得的上述摄像图像中的上述不良孔部分的面积；面积比率计算部，计算上述不良孔部分的面积相对于上述正常孔部分的面积的比例即面积比率；以及缺陷原因确定部，确定上述不良孔部分的原因，上述缺陷原因确定部为，在上述面积比率为1以上的情况下，确定上述不良孔部分的原因为第1原因或者第2原因，在上述面积比率低于1的情况下，确定上述不良孔部分的原因为并非上述第1原因及上述第2原因中的任一方的原因，上述蒸镀掩模缺陷原因确定系统还具备：径向尺寸计算部，计算由上述图像取得部取得的上述摄像图像中的、从上述不良孔部分的重心位置起到上述不良孔部分与上述不良孔部分周围的上述基材部分的边界部分为止的长度即径向尺寸；以及对称性判定部，基于由上述径向尺寸计算部计算出的上述径向尺寸，判定上述不良孔部分的形状的对称性，上述径向尺寸计算部计算以上述重心位置为中心的间隔45°的8个方向的上述径向尺寸，上述缺陷原因确定部为，在上述面积比率为1以上的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状不具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为上述第1原因，在上述面积比率为1以上的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为与上述第1原因不同的上述第2原因，在上述面积比率低于1的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状不具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为并非上述第1原因及上述第2原因中的任一方的第3原因，在上述面积比率低于1的情况、且是由上述对称性判定部判定为上述摄像图像中的上述正常孔部分的形状具有对称性且上述不良孔部分的形状具有对称性的情况下，确定上述不良孔部分的原因为并非上述第1原因、上述第2原因及上述第3原因中的任一方的第4原因，上述蒸镀掩模的制造所使用的抗蚀剂为液态抗蚀剂或者干膜抗蚀剂，在上述抗蚀剂为负性的情况下，上述第1原因包含如下情况的至少任一方：上述抗蚀剂本身存在异物并在显影时脱落；在上述蒸镀掩模的制造中上述抗蚀剂物理地受伤；在上述抗蚀剂为上述干膜抗蚀剂的情况下，在相对于上述基材层叠上述干膜抗蚀剂时夹入异物，上述干膜抗蚀剂与上述基材未紧贴的部分搭接于上述不良孔部分；在上述抗蚀剂为上述干膜抗蚀剂的情况下，从上述基材的前处理以后到上述干膜抗蚀剂向上述基材的层叠处理为止，上述基材的污染未被消除；上述蒸镀掩模的制造所使用的曝光掩模存在问题；在上述抗蚀剂为上述干膜抗蚀剂的情况下，在上述干膜抗蚀剂相对于上述基材层叠时产生了空气的夹入；以及曝光时产生了由异物引起的曝光阻碍，上述第2原因包含如下情况的至少任一方：上述曝光掩模的开口图案存在问题；上述曝光掩模的表面整体均匀地受到污染；在上述抗蚀剂为上述干膜抗蚀剂的情况下，上述干膜抗蚀剂向上述基材的层叠处理的条件不适当，从而上述干膜抗蚀剂向上述基材的紧贴性降低；以及蚀刻中产生了渗入，上述第3原因包含如下情况的至少任一方：产生了由上述抗蚀剂与上述基材之间的异物引起的局部的蚀刻延迟；在上述抗蚀剂为上述干膜抗蚀剂的情况下，由于由上述干膜抗蚀剂的载膜上的异物引起的向上述干膜抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述干膜抗蚀剂的一部分固化，从而产生了局部的蚀刻延迟；产生了由通过显影进行了图案形成之后的上述抗蚀剂的开口内的残存物引起的局部的蚀刻延迟；上述曝光掩模的上述开口图案存在局部的缺损；以及在上述曝光掩模的与上述基材对置的面中存在由朝向上述基材突出的局部的损伤引起的飞边，上述第4原因包含如下情况的至少任一方：产生了由上述抗蚀剂的开口偏差或者蚀刻液的润湿性不足引起的蚀刻延迟；产生了由通过显影进行了图案形成之后的上述抗蚀剂的开口内的被膜残渣引起的蚀刻不足；在上述抗蚀剂为上述干膜抗蚀剂的情况下，由于由上述干膜抗蚀剂的上述载膜上的异物引起的向上述干膜抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述干膜抗蚀剂的一部分固化，从而产生了蚀刻延迟；在上述抗蚀剂为上述干膜抗蚀剂的情况下，由于由上述干膜抗蚀剂的上述载膜内部的异物引起的向上述干膜抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述干膜抗蚀剂的一部分固化，从而产生了蚀刻延迟；以及由于因上述抗蚀剂的紧贴不足引起的向上述抗蚀剂曝光时的光散射，导致被遮光的上述抗蚀剂的一部分固化，从而产生了蚀刻延迟。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 凸版印刷株式会社 蒸镀掩模缺陷原因确定系统、蒸镀掩模缺陷原因确定方法及程序

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