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【发明公布】一种液冷下部电极基材的制造工艺_苏州众芯联电子材料有限公司_202211594863.7 

申请/专利权人:苏州众芯联电子材料有限公司

申请日:2022-12-13

公开(公告)日:2024-06-14

公开(公告)号:CN118180593A

主分类号:B23K20/12

分类号:B23K20/12;B23K20/26

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.14#公开

摘要:本发明公开了一种液冷下部电极基材的制造工艺,其包括步骤:在基材表面开设沟槽,将沟槽作为供冷却液流动的流道;使用与沟槽轮廓对应的盖板覆盖在沟槽的槽口部位,通过盖板将沟槽密封;将基材固定在焊接治具上,采用摩擦搅拌焊的焊接方式将盖板与基材进行焊接;本方案设计的一种液冷下部电极基材的制造工艺,在液晶面板下部电极的基材上制作流道,在流道内通入冷却液来给电极降温,流道由开设在基材表面的沟槽以及覆盖在沟槽表面的盖板组成,同时,需要采用摩擦搅拌焊的方式将盖板焊接在基材上,使沟槽内部密封,此种制作方法在不需要特殊加工环境的前提下,实现大尺寸、大深度的金属焊接,降低了制造难度,且焊缝品质一致性高。

主权项:1.一种液冷下部电极基材的制造工艺,其特征在于:其包括如下步骤:在基材表面开设沟槽,且所述沟槽均匀分布在基材的表面;使用与所述沟槽轮廓对应的盖板覆盖在沟槽的槽口部位,通过所述盖板将所述沟槽密封,盖板与沟槽组合在基材上形成用于通入冷却液的流道;将所述基材固定在焊接治具上,采用摩擦搅拌焊的焊接方式将所述盖板与所述基材进行焊接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州众芯联电子材料有限公司 一种液冷下部电极基材的制造工艺

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