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申请/专利权人：天通银厦新材料有限公司

摘要：本申请公开了一种晶片自动研磨系统，涉及光学晶片制作技术领域，装置包括机架、自动上下料机构、清洗机构、第一控制机构和两台双面研磨机；机架上的两侧分别设置有横向直线导轨，自动上下料机构包括花篮上下料机构、晶片上下料机构、游星轮缓存机构和研磨机上下料机构；花篮上下料机构包括分别设置于机架一端上的花篮上料机构和花篮下料机构，晶片上下料机构包括四轴机械手和晶片夹爪；游星轮缓存机构包括游星轮上料缓存器和游星轮下料缓存器；研磨机上下料机构包括六轴机械手、吸盘件和视觉定位装置；两台双面研磨机设于机架的两侧。本申请能够有效解决产品无法溯源、生产效率较低、且工作人员劳动强度大的技术问题。

主权项：1.一种晶片自动研磨系统，其特征在于，包括：机架、自动上下料机构、清洗机构、第一控制机构和两台双面研磨机；所述机架上的两侧分别设置有横向直线导轨，所述自动上下料机构包括花篮上下料机构、晶片上下料机构、游星轮缓存机构和研磨机上下料机构；所述花篮上下料机构包括分别设置于所述机架一端上的花篮上料机构和花篮下料机构，所述晶片上下料机构包括四轴机械手和晶片夹爪，所述四轴机械手设于所述机架上的所述花篮上料机构和所述花篮下料机构之间，所述晶片夹爪与所述四轴机械手连接；所述游星轮缓存机构包括游星轮上料缓存器和游星轮下料缓存器，每一所述横向直线导轨上均设置有第一滑块和第二滑块，所述游星轮上料缓存器的底部分别与两个所述第一滑块连接，所述游星轮下料缓存器的底部分别与两个所述第二滑块连接，所述第一滑块的高度大于所述第二滑块与所述游星轮下料缓存器高度的总和，所述游星轮下料缓存器能够从所述游星轮上料缓存器的下方穿过，所述游星轮上料缓存器和所述游星轮下料缓存器均用于放置游星轮；所述研磨机上下料机构包括六轴机械手、吸盘件和视觉定位装置，所述六轴机械手设于所述机架上远离所述四轴机械手的一端，所述横向直线导轨均设置于所述机架上，所述横向直线导轨的导轨长方向与所述机架长方向一直，且所述横向直线导轨均设于所述四轴机械手和所述六轴机械手之间，所述吸盘件与所述六轴机械手连接，所述视觉定位装置设于所述六轴机械手的第六轴上并与所述六轴机械手的第六轴连接；两台所述双面研磨机设于所述机架靠近所述六轴机械手的两侧，所述机架与两台所述双面研磨机组合形成T型结构，每一所述双面研磨机均对应设置有抹片机构，所述清洗机构与所述机架靠近所述六轴机械手的一端连接，所述第一控制机构分别与所述四轴机械手、六轴机械手、所述双面研磨机、所述游星轮上料缓存器及所述游星轮下料缓存器通信连接；所述花篮上料机构用于放置多个待磨晶片，所述四轴机械手用于通过所述晶片夹爪将多个所述待磨晶片抓取后按照顺序排布在所述游星轮上料缓存器上的游星轮中的晶片定位孔内，所述第一滑块用于将所述游星轮上料缓存器上的游星轮及多个待磨晶片在对应的所述横向直线导轨上移动至靠近所述六轴机械手的研磨机上料位；所述六轴机械手用于通过所述吸盘件抓取所述游星轮上料缓存器上的所述游星轮及所述游星轮上的所述待磨晶片并放置至对应的所述双面研磨机上，所述双面研磨机用于对所述待磨晶片进行双面研磨，所述抹片机构用于将对应的所述双面研磨机上的游星轮上的移位的待磨晶片刷入所述晶片定位孔内，并在所述待磨晶片研磨完成后将所述游星轮上的研磨液刷下；所述视觉定位装置用于获取所述双面研磨机上完成研磨的游星轮的位置姿态信号，并将所述位置姿态信号输出给所述六轴机械手，所述六轴机械手还用于根据所述位置姿态信号将所述双面研磨机完成研磨的游星轮及游星轮上的目标晶片抓取并放置至所述清洗机构中进行清洗，所述六轴机械手还用于在所述游星轮及所述目标晶片清洗完成后将所述游星轮及所述目标晶片抓取并放置至所述游星轮下料缓存器上；所述第二滑块用于将所述游星轮下料缓存器、所述游星轮及所述目标晶片移动至靠近所述四轴机械手的晶片下料位，四轴机械手用于将所述游星轮下料缓存器中每一所述游星轮上的所述目标晶片依次抓取并放置至所述花篮下料机构上。

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