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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：提供了一种表膜隔膜，包括在硅基基质中的金属硅化物晶体群，其中表膜隔膜具有0.3或更高的发射率。还提供了一种制造表膜隔膜、表膜组件、包括这种表膜隔膜或表膜组件的光刻设备的方法。还描述了这种表膜隔膜、表膜组件或光刻设备在光刻设备或方法中的用途。
主权项：1.一种表膜隔膜，所述表膜隔膜包括在硅基基质中的金属硅化物晶体群，其中所述表膜隔膜具有0.3或更高的发射率。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于光刻设备的表膜隔膜
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