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静电吸盘及晶片处理装置 

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申请/专利权人:TOTO株式会社

摘要:本发明提供一种静电吸盘,具备:多结晶陶瓷烧结体即陶瓷电介体基板,具有放置处理对象物的第1主面与第1主面相反侧的第2主面;电极层,设置于陶瓷电介体基板;基座板,设置在第2主面侧而支撑陶瓷电介体基板;及加热器,设置在电极层与基座板之间,其特征为,基座板具有:通孔,贯通基座板;及连通路,使调整处理对象物温度的介质通过,在垂直于第1主面的方向上观察时,加热器中的至少一部分存在于在从最接近通孔的连通路的第1部分观察时的通孔侧。

主权项:1.一种静电吸盘,具备:多结晶陶瓷烧结体即陶瓷电介体基板,具有放置处理对象物的第1主面与所述第1主面相反侧的第2主面;电极层,设置于所述陶瓷电介体基板;基座板,设置在所述第2主面侧而支撑所述陶瓷电介体基板;及加热器,设置在所述电极层与所述基座板之间,其特征为,所述基座板具有:通孔,贯通所述基座板;及连通路,使调整所述处理对象物温度的介质通过,在垂直于所述第1主面的方向上观察时,所述加热器中的至少一部分存在于在从最接近所述通孔的所述连通路的第1部分观察时的所述通孔侧,在垂直于所述第1主面的方向上观察时,所述加热器的所述一部分以及所述连通路的包含所述第1部分的一部分分别具有包围所述通孔的形状。

全文数据:

权利要求:

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