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申请/专利权人：书行科技(北京)有限公司
申请日：2023-10-12
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN117455753B
主分类号：G06T3/04
分类号：G06T3/04;G06T3/18;G06T5/30
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.18#授权;2024.02.13#实质审查的生效;2024.01.26#公开
摘要：本申请实施例公开了一种特效模板生成方法、特效生成方法、装置及存储介质。特效模板生成方法包括：获取待处理图像及其主体掩膜；获取初始特效模板，初始特效模板用于根据主体掩膜为待处理图像生成主体识别特效；响应于基于参数控制界面触发的参数控制指令获取特效调节参数和掩膜膨胀参数；根据特效调节参数、掩膜膨胀参数和初始特效模板生成主体识别特效模板，主体识别特效模板用于根据待处理图像对应的膨胀掩膜为待处理图像生成与特效调节参数匹配的主体识别特效，膨胀掩膜根据掩膜膨胀参数对主体掩膜进行膨胀处理后获得。可以提供可视化的参数控制界面以获取的相关参数和初始特效模板生成主体识别特效模板，能提高特效模板生成的效率。
主权项：1.一种特效模板生成方法，其特征在于，所述方法包括：获取待处理图像以及所述待处理图像的主体掩膜；获取初始特效模板，其中，所述初始特效模板用于根据所述主体掩膜为所述待处理图像生成主体识别特效；响应于基于参数控制界面触发的参数控制指令，获取特效调节参数和掩膜膨胀参数，其中，所述特效调节参数用于调节所述待处理图像对应的主体识别特效的显示效果，所述掩膜膨胀参数包括掩膜纹理和范围控制参数；获取所述待处理图像的图像尺寸，根据所述图像尺寸和所述范围控制参数确定所述待处理图像对应的掩膜膨胀范围；根据所述掩膜膨胀范围、所述掩膜纹理和所述主体掩膜，获得所述待处理图像对应的膨胀掩膜；根据所述特效调节参数、所述掩膜膨胀参数和所述初始特效模板，生成基于所述膨胀掩膜的主体识别特效模板，其中，所述主体识别特效模板用于根据所述待处理图像对应的膨胀掩膜为所述待处理图像生成与所述特效调节参数匹配的主体识别特效，所述膨胀掩膜根据所述掩膜膨胀参数对所述主体掩膜进行膨胀处理后获得。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 书行科技(北京)有限公司 特效模板生成方法、特效生成方法、装置及存储介质
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