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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2019-09-24
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN112840274B
主分类号：G03F9/00
分类号：G03F9/00
优先权：["20181012 EP 18200138.8"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.18#授权;2021.06.11#实质审查的生效;2021.05.25#公开
摘要：公开了一种用于对准传感器的检测系统、以及包括这种检测系统的对准传感器和光刻投影装置。检测系统包括：至少一个检测电路；以及多个光纤芯，用于将测量信号传输到至少一个检测电路。多个光纤芯的至少一个子集可选择地在检测状态和非检测状态之间切换，从而限定可配置检测斑点。
主权项：1.一种用于对准传感器的检测系统，包括：至少一个检测电路；以及多个光纤芯，用于将测量信号传输到所述至少一个检测电路；其中所述多个光纤芯中的至少一个子集能够选择性地在检测状态和非检测状态之间切换，从而限定可配置检测斑点，以及其中所述检测系统能够在第一检测模式和第二检测模式中操作，在所述第一检测模式中，仅有所述多个光纤芯中的第一子集处于检测状态，在所述第二检测模式中，仅有所述多个光纤芯中的第二子集处于检测状态，所述第一子集小于所述第二子集，从而使得与所述第二检测模式相比，在所述第一检测模式中限定更小的检测斑点。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于对准传感器的检测系统
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