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【发明授权】一种镜头畸变校正方法及装置_昆山丘钛微电子科技股份有限公司_202110858733.9 

申请/专利权人:昆山丘钛微电子科技股份有限公司

申请日:2021-07-28

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN113706625B

主分类号:G06F7/544

分类号:G06F7/544

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2021.12.14#实质审查的生效;2021.11.26#公开

摘要:本发明公开了一种镜头畸变校正方法及装置,所述方法包括:基于镜头拍摄的测试图,获得特征点矩阵。基于二次B样条曲线原理对特征点矩阵进行插值,获得特征点地图;其中,特征点矩阵的第一特征点与二次B样条曲线的型值点对应;基于特征点地图中的第二特征点,对镜头拍摄的待校正图像进行校正,获得校正图像。本发明在校正的过程中使用了通过二次B样条曲线原理得到的特征点地图,该特征点地图具有较高的映射精度,使用该特征点地图进行校正时不需要进行大量的计算,计算开销小。

主权项:1.一种镜头畸变校正方法,其特征在于,包括:基于镜头拍摄的测试图,获得特征点矩阵;基于二次B样条曲线原理对所述特征点矩阵进行插值,获得特征点地图;其中,所述特征点矩阵的第一特征点与所述二次B样条曲线的型值点对应;基于所述特征点地图中的第二特征点,对所述镜头拍摄的待校正图像进行校正,获得校正图像;所述基于二次B样条曲线原理对所述特征点矩阵进行插值,获得特征点地图,包括:基于预设区域的目标阵列点,获取行目标阵列点之间的第一平均距离;基于所述第一平均距离,确定相邻所述行目标阵列点之间的第一插值数量;基于预设区域的目标阵列点,获取列目标阵列点之间的第二平均距离;基于所述第二平均距离,确定相邻所述列目标阵列点之间的第二插值数量;基于所述第一插值数量和所述第二插值数量进行插值;其中,所述预设区域为测试图上的任一未发生畸变或畸变较小的区域。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 昆山丘钛微电子科技股份有限公司 一种镜头畸变校正方法及装置

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