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申请/专利权人：西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安欣芯材料科技有限公司
申请日：2024-04-30
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118218298A
主分类号：B08B3/02
分类号：B08B3/02;B08B13/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本公开提供了一种抛光垫清洗装置及清洗方法、抛光设备，抛光垫清洗装置包括：图像采集单元，用于采集抛光垫的表面图像；清洗单元，包括喷嘴组件、供液组件和喷嘴移动组件，供液组件用于为喷嘴组件提供清洗液；喷嘴移动组件用于在抛光垫表面一侧移动喷嘴组件；清洗单元被配置为清洗能力可调节，满足以下至少一项：喷嘴组件的喷射角度和喷射孔径中至少一者可调节；供液组件的供液流量和供液压力中至少一者可调节；喷嘴组件移动速度可调节；控制单元，用于基于抛光垫的表面图像，获取抛光垫表面的釉化区分布状态，并控制清洗单元按照釉化区的分布状态调整清洗能力。本公开的抛光垫清洗装置及清洗方法、抛光设备可提高抛光垫清洗效果。
主权项：1.一种抛光垫清洗装置，用于清洗抛光垫；其特征在于，所述抛光垫清洗装置包括：图像采集单元，用于采集所述抛光垫的表面图像；清洗单元，包括喷嘴组件、供液组件和喷嘴移动组件，所述供液组件与所述喷嘴组件连通，所述供液组件用于为所述喷嘴组件提供清洗液；所述喷嘴移动组件与所述喷嘴组件连接，所述喷嘴移动组件用于在所述抛光垫表面一侧移动所述喷嘴组件；其中所述清洗单元被配置为清洗能力可调节，满足以下至少一项：所述喷嘴组件的喷射角度和喷射孔径中至少一者可调节；所述供液组件的供液流量和供液压力中至少一者可调节；所述喷嘴组件移动速度可调节；控制单元，与所述图像采集单元和所述清洗单元连接，所述控制单元用于基于所述抛光垫的表面图像，获取所述抛光垫表面的釉化区分布状态，并控制所述清洗单元按照所述釉化区的分布状态调整清洗能力。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安欣芯材料科技有限公司 一种抛光垫清洗装置及清洗方法、抛光设备
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