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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
申请日：2023-12-19
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118221949A
主分类号：C08G79/12
分类号：C08G79/12;C09D185/00;G03F7/09;G03F7/11;G03F7/20
优先权：["20221221 JP 2022-204797"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明涉及含金属的膜形成用聚合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供具有优异的干蚀刻耐性，且兼具高程度填埋平坦化特性的含金属的膜形成用聚合物、使用了该聚合物的含金属的膜形成用组成物、使用了该组成物的图案形成方法。本发明为一种含金属的膜形成用聚合物，其特征在于：前述聚合物具有下列通式1A表示的重复单元，[化1]式中，W1为碳数1～31的2价有机基团，Q表示选自由碳数1～20的烷基、碳数3～20的环烷基、含有1个以上的双键或三键的碳数2～20的脂肪族不饱和有机基团、碳数6～30的芳基、碳数7～31的芳烷基构成的群组中的基团。
主权项：1.一种含金属的膜形成用聚合物，其特征在于：该含金属的膜形成用聚合物具有下列通式1A表示的重复单元， 上述通式1A中，W1为碳数1～31的2价有机基团，Q各自独立表示选自由经取代或非经取代的碳数1～20的烷基、经取代或非经取代的碳数3～20的环烷基、含有1个以上的双键或三键的经取代或非经取代的碳数2～20的脂肪族不饱和有机基团、经取代或非经取代的碳数6～30的芳基、经取代或非经取代的碳数7～31的芳烷基构成的群组中的基团。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 含金属的膜形成用聚合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法
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