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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日：2019-12-27
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN113050365B
主分类号：G03F1/36
分类号：G03F1/36
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权;2021.07.16#实质审查的生效;2021.06.29#公开
摘要：本发明提供一种光学临近邻近修正方法及系统、掩模版、设备与介质，所述光学邻近修正方法包括：提供原始版图图形，所述原始版图图形包括相临的第一图形和第二图形，提取第一图形中第一端部的第一中心点，以及第二图形中第二端部的第二中心点，并以第一中心点和第二中心点的连线为斜边，建立直角三角形，取直角三角形中，斜边与第二直角边的最小长度，计算得到第一直角边的最小长度；根据第一直角边的最小长度，得到所述预补偿修正间隙的最小宽度；根据预补偿修正间隙的最小宽度，在原始版图图形上添加预补偿修正间隙，得到修正后版图。本发明提高芯片生产的良率。
主权项：1.一种光学邻近修正方法，用于在修正方向上添加预补偿修正间隙，特征在于，包括：提供原始版图图形，所述原始版图图形包括相邻的第一图形和第二图形，所述第一图形的第一端部和第二图形的第二端部相接近；提取所述第一端部的第一中心点，以及第二端部的第二中心点，并以第一中心点和第二中心点的连线为斜边，建立直角三角形，所述直角三角形还包括第一直角边和第二直角边，所述第一直角边平行于所述修正方向，所述第二直角边垂直于所述修正方向；提取所述直角三角形中所述斜边的最小长度与第二直角边的最小长度，计算得到所述第一直角边的最小长度；根据所述第一直角边的最小长度，得到所述预补偿修正间隙的最小宽度；根据所述预补偿修正间隙的最小宽度，在所述原始版图图形上添加预补偿修正间隙，得到修正后版图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 光学邻近修正方法及系统、掩模版、设备与介质
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