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【发明授权】蚀刻剂组合物、布线形成方法及用于液晶显示装置的阵列基板的制造方法_东友精细化工有限公司_202110865239.5 

申请/专利权人:东友精细化工有限公司

申请日:2021-07-29

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN114075669B

主分类号:C23F1/14

分类号:C23F1/14;C23F1/02;H01L21/3213;H01L27/12;H01L21/77

优先权:["20200810 KR 10-2020-0099745","20210707 KR 10-2021-0089320"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权;2022.03.11#实质审查的生效;2022.02.22#公开

摘要:本发明涉及一种用于蚀刻金属膜的蚀刻剂组合物、使用所述蚀刻剂组合物的布线形成方法以及用于液晶显示装置的阵列基板的制造方法,根据本发明的蚀刻剂组合物的特征在于包括氢过氧化物、氟化合物、唑类化合物、一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物以及硫酸盐化合物,其中,所述磷酸盐化合物和所述硫酸盐化合物中的任一个包括铵盐,且当“Y=[水溶性化合物含量+硫酸盐化合物含量][氟化合物含量+磷酸盐化合物含量]”时,Y值为16以上且200以下。

主权项:1.一种蚀刻剂组合物,其特征在于,包括:A过氧化氢;B氟化合物;C唑类化合物;D一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物;E磷酸盐化合物;以及F硫酸盐化合物,其中,所述E磷酸盐化合物和所述F硫酸盐化合物中的任一个包括铵盐,并且下述等式1的Y值为16以上且200以下,其中相对于组合物的总重量,所述D一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物的含量为1.5至2.5重量%,且所述F硫酸盐化合物的含量为0.2至1.5重量%:[等式1]

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东友精细化工有限公司 蚀刻剂组合物、布线形成方法及用于液晶显示装置的阵列基板的制造方法

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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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