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【发明授权】电致变色玻璃及其制备方法_广东旗滨节能玻璃有限公司;深圳市新旗滨科技有限公司_201811631724.0 

申请/专利权人:广东旗滨节能玻璃有限公司;深圳市新旗滨科技有限公司

申请日:2018-12-28

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN109491171B

主分类号:G02F1/153

分类号:G02F1/153;G02F1/15;G02F1/157

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权;2019.04.12#实质审查的生效;2019.03.19#公开

摘要:本发明提供一种电致变色玻璃,包括玻璃基层、调色组合层和电致变色层。调色组合层镀于玻璃基层与电致变色层之间。调色组合层自靠近玻璃基层的一侧起依次包括第一膜层、第二膜层和第三膜层。第一膜层包括氮化硅层和氮化硼硅层中的至少一种;第二膜层包括铜层、银层、铜银合金层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种;第三膜层包括氧化硅层和氧化硼硅层中的至少一种。电致变色层自靠近调色组合层的一侧起依次包括第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层。本发明还提供该电致变色玻璃的制备方法。本发明通过增设调色组合层,降低电致变色玻璃的U值,同时使玻璃颜色和透光率可调。

主权项:1.一种电致变色玻璃,其特征在于,包括:玻璃基层;调色组合层,镀于所述玻璃基层的一侧,所述调色组合层中从靠近所述玻璃基层的一侧到相对的另一侧依次包括第一膜层、第二膜层和第三膜层,所述第一膜层包括氮化硅层和氮化硼硅层中的至少一种,所述第二膜层包括铜层、银层、铜银合金层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种,所述第三膜层包括氧化硅层和氧化硼硅层中的至少一种;所述调色组合层还包括锆层和氧化锆层,所述锆层镀于所述第二膜层的背向所述第一膜层的一侧;所述氧化锆层镀于所述锆层的背向所述第二膜层的一侧;所述第三膜层镀于所述氧化锆层的背向所述锆层的一侧;电致变色层,镀于所述调色组合层的背向所述玻璃基层的一侧,所述电致变色层中从靠近所述调色组合层的一侧到相对的另一侧依次包括第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层;所述调色组合层的总厚度为5.3~300nm,其中所述第一膜层的厚度为3~120nm,所述第二膜层的厚度为0.3~40nm,所述第三膜层的厚度为2~140nm。

全文数据:电致变色玻璃及其制备方法技术领域本发明涉及玻璃技术领域,尤其涉及一种电致变色玻璃及其制备方法。背景技术众所周知,电致变色玻璃在施加电压前后,其颜色和透过率都会发生变化。此外,通过电致变色玻璃制作的电致变色节能窗,可以实现光热的分波段自动调控,可选择性的吸收或反射外界热辐射和阻止内部热扩散,在夏季室内保持凉爽、冬季保持温暖的情况下,可以节约室内的能耗。电致变色玻璃的保温隔热性能一般是用U值来表示的。U值的定义为:当玻璃的两侧有温差时,热量从温度高的一侧通过玻璃传递到温度低的一侧,当玻璃的两侧温差为1℃时,单位时间内通过玻璃的单位面积所传递的热量为U值。U值越低,通过玻璃的传热量也越低,玻璃的隔热性能越好。现有的电致变色玻璃虽然具有隔热保温的效果,但由于其U值比较高,其保温隔热效果并不如低辐射玻璃LOW-E玻璃那么好。发明内容本发明的主要目的是提出一种电致变色玻璃及其制备方法,旨在降低电致变色玻璃的U值,同时使玻璃颜色和透光率可调。为实现上述目的,本发明提供一种电致变色玻璃,包括:玻璃基层;调色组合层,镀于所述玻璃基层的一侧,所述调色组合层中从靠近所述玻璃基层的一侧到相对的另一侧依次包括第一膜层、第二膜层和第三膜层,所述第一膜层包括氮化硅层和氮化硼硅层中的至少一种,所述第二膜层包括铜层、银层、铜银合金层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种,所述第三膜层包括氧化硅层和氧化硼硅层中的至少一种。;电致变色层,镀于所述调色组合层的背向所述玻璃基层的一侧,所述电致变色层中从靠近所述调色组合层的一侧到相对的另一侧依次包括第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层。可选地,所述调色组合层的总厚度为5.3~300nm,其中所述第一膜层的厚度为3~120nm,所述第二膜层的厚度为0.3~40nm,所述第三膜层的厚度为2~140nm。可选地,所述第一膜层的厚度范围为30~60nm,所述第二膜层的厚度范围为2~4.5nm,所述第三膜层的厚度范围为45~75nm,所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为1.3~1.4。可选地,所述第一膜层的厚度范围为25~45nm,所述第二膜层的厚度范围为2~4.2nm,所述第三膜层的厚度范围为60~95nm,所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为2.12~2.14。可选地,于所述调色组合层中,所述第一膜层的厚度范围为25~46nm,所述第二膜层的厚度范围为1.5~3.8nm,所述第三膜层的厚度范围为35~60nm,所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为1.2~1.3。可选地,所述调色组合层还包括锆层和氧化锆层,所述锆层镀于所述第二膜层的背向所述第一膜层的一侧;所述氧化锆层镀于所述锆层的背向所述第二膜层的一侧;所述第三膜层镀于所述氧化锆层的背向所述锆层的一侧。可选地,所述调色组合层的总厚度为5~300nm,其中所述第一膜层的厚度为1.4~110nm,所述第二膜层的厚度为0.3~35nm,所述锆层的厚度为0.3~20nm,所述氧化锆层的厚度为1~15nm,所述第三膜层的厚度为2~120nm。可选地,所述玻璃基层的厚度为2~19mm,所述第一透明导电层的厚度为140~700nm,所述变色层的厚度为30~100nm,所述锂离子导体层的厚度为50~650nm,所述离子储存层的厚度为200~400nm,所述第二透明导电层的厚度为100~500nm。本发明还提供一种电致变色玻璃的制备方法,用于制备所述电致变色玻璃,所述制备方法包括:在真空环境下利用靶材对玻璃基层表面进行磁控溅射,依次溅射形成第一膜层、第二膜层、第三膜层、第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层。可选地,在溅射第三膜层之前还包括以下步骤:在真空环境下利用靶材对第二膜层的表面进行磁控溅射,依次溅射形成锆层和氧化锆层。可选地,所述制备方法还包括:在第一透明导电层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为350℃~400℃;在所述变色层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为300℃~330℃;在所述离子储存层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为350℃~400℃;在所述第二透明导电层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为350℃~400℃。本发明技术方案提供的电致变色玻璃,在玻璃基层与电致变色层之间增设调色组合层。调色组合层包括第一膜层、第二膜层和第三膜层。其中,第二膜层包括铜层、银层、铜银合金层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种,在该电致变色玻璃中能够起到降低U值和调节颜色的作用。而第一膜层和第三膜层分别设于第二膜层的两侧则能够起到调节颜色和增透的作用。因此,增设该调色组合层,能够降低电致变色玻璃的U值,同时使玻璃颜色和透光率可调。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本发明电致变色玻璃一实施例的结构示意图;图2为本发明电致变色玻璃另一实施例的结构示意图。附图标号说明:本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。需要说明,若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。另外,本发明技术方案使用颜色模型Lab作为色标,对电致变色玻璃的玻面颜色和膜面颜色进行设计。颜色模型Lab是基于人对颜色的感觉建立起来的模型,Lab中的数值描述正常视力的人能够看到的所有颜色。Lab色彩模型是由亮度L和颜色值a*、b*共三个要素组成。其中,L表示亮度Luminosity,a*表示从洋红色至绿色的范围,b*表示从黄色至蓝色的范围。还需要说明的是,本发明述及的实施例中,中性色定义为:玻面颜色a*为-1.7~-0.7,b*为-2.8~-1.8时,电致变色玻璃显示的颜色。本发明实施例提出一种电致变色玻璃1,请参阅图1所示,电致变色玻璃1包括:玻璃基层10、调色组合层20和电致变色层30。其中,调色组合层20镀于玻璃基层10的一侧。而电致变色层30镀于调色组合层20的背向玻璃基层10的一侧。调色组合层20中从靠近玻璃基层10的一侧到相对的另一侧依次包括第一膜层201、第二膜层202和第三膜层203。第一膜层201包括氮化硅层和氮化硼硅层中的至少一种。第二膜层202包括铜层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种。第三膜层203包括氧化硅层和氧化硼硅层中的至少一种。电致变色层30中从靠近调色组合层20的一侧到相对的另一侧依次包括第一透明导电层301、变色层302、锂离子导体层303、离子储存层304和第二透明导电层305。在调色组合层20中,第二膜层202中所包含的铜层、银层和铜银合金层等能够吸收和反射太阳光,因此,能够显著降低电致变色玻璃1的辐射率和U值;另外,这些有色金属元素在调色组合层20中还起到重要的调色作用;此外,该膜层还具备耐高温和力学性能优良的特性。需要说明的是,虽然铜层、银层和铜银合金层等能够显著降低电致变色玻璃的辐射率,并且第二膜层202的厚度越大,电致变色玻璃1的辐射率和U值就越低,但是第二膜层202越厚,电致变色玻璃1的透光率就越低。而本发明技术方案,通过在第二膜层202的两侧设置第一膜层201和第三膜层203作为增透层,能够在降低电致变色玻璃1的U值的同时,保证电致变色玻璃在通电前具有良好的透光率。电致变色玻璃1通电前的透光率为20~65%,通电后透光率会降低到4%以下。因此,采用该电致变色玻璃1作为窗玻璃,用户就可根据需求调节室内的透光度。若用户需要较高的透光度,就无需对电致变色玻璃1进行通电,由于电致变色玻璃1通电前的透光率较高,可使室内透光、明亮。若用户需要较低的透光度,此时,对电致变色玻璃进行通电,便可使电致变色玻璃1着色并且降低透光率,使得电致变色玻璃1不透明,室外对室内不可见。除了能够增加电致变色玻璃1的透光率之外,第一膜层201和第三膜层203的作用包括以下多个方面:调节电致变色玻璃1的颜色和光学性能;阻止玻璃基层10中钠离子的溢出,覆盖原片缺陷对电致变色玻璃1的颜色和光学性能的影响;连接玻璃基层10和第二膜层202;耐高温,利于溅射过程中进行加热处理等。本发明技术方案提供的电致变色玻璃,在玻璃基层与电致变色层之间增设调色组合层,调色组合层包括第一膜层、第二膜层和第三膜层,其中,第二膜层包括铜层、银层、铜银合金层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种,第二膜层能够起到降低U值和调节颜色的作用。而第一膜层和第三膜层分别设于第二膜层的两侧则能够起到调节颜色和增透的作用。因此,增设该调色组合层,能够降低电致变色玻璃的U值,同时使玻璃颜色和透光率可调。需要说明的是,本发明的电致变色玻璃在通电前为中性色,通电后由于调色组合层以及电致变色层的共同作用,会使电致变色玻璃呈现灰色或者浅蓝色又或者浅绿色等颜色,具体呈现的颜色与调色组合层的材料与厚度有关。在一实施例中,请参阅图1所示,调色组合层20包括第一膜层201、第二膜层202和第三膜层203。优选地,调色组合层20的总厚度为5.3~300nm,其中,第一膜层201的厚度为3~120nm,第二膜层202的厚度为0.3~40nm,第三膜层203的厚度为2~140nm。在另一实施例中,请参阅图2所示,调色组合层20还包括锆层204和氧化锆层205,锆层204镀于第二膜层202的背向第一膜层201的一侧;氧化锆层205镀于锆层204的背向第二膜层202的一侧;第三膜层203镀于氧化锆层205的背向锆层204的一侧。优选地,调色组合层20的总厚度为5~300nm,其中,第一膜层201的厚度为1.4~110nm,第二膜层202的厚度为0.3~35nm,锆层204的厚度为0.3~20nm,氧化锆层205的厚度为1~15nm,第三膜层203的厚度为2~120nm。其中,锆层204的作用有:在第二膜层202与其它层之间起粘结作用,并能够防止第二膜层202的进一步氧化;调节电致变色玻璃1的透过色、透光率、玻面反射和膜面反射;而氧化锆层205的作用有:作为高折射率膜层,起到增透作用;具有抗氧化和耐酸碱腐蚀作用;与第三膜层203的低折射率搭配,起到高低搭配减反增透作用。在一实施例中,在调色组合层20中,第一膜层201的厚度范围为30~60nm,第二膜层202的厚度范围为2~4.5nm,第三膜层203的厚度范围为45~75nm。优选地,第一膜层202的厚度范围为35~50nm,第二膜层203的厚度范围为2.5~4.0nm,第三膜层203的厚度范围为50~65nm。且第三膜层203的厚度与第一膜层201的比值范围为1.3~1.4。如此,电致变色玻璃1着色后显示为中性色。在另一实施例中,在调色组合层20中,第一膜层201的厚度范围为25~45nm,第二膜层202的厚度范围为2.0~4.2nm,所述第三膜层203的厚度范围为60~95nm。优选地,第一膜层201的厚度范围为30~42nm,第二膜层202的厚度范围为2.8~4.2nm,第三膜层203的厚度范围为68~85nm。且第三膜层203的厚度与第一膜层201的比值范围为2.12~2.14。如此,电致变色玻璃1着色后显示为灰色。在又一实施例中,在调色组合层20中,第一膜层201的厚度范围为25nm~46nm,第二膜层202的厚度范围为1.5nm~3.8nm,所述第三膜层202的厚度范围为35nm~60nm。优选地,第一膜层201的厚度范围为30~42nm,第二膜层202的厚度范围为2.5~3.5nm,第三膜层203的厚度范围为40~55nm。且第三膜层203的厚度与第一膜层201的比值范围为1.2~1.3。如此,电致变色玻璃1着色后显示为浅蓝色。第一透明导电层301包括ITO层和AZO层中的任意一种;同样的,第二透明导电层305也包括ITO层和AZO层中的任意一种。变色层302包括氧化钨和氧化钨钼中的至少一种。离子储存层304包含镍钒的氧化物、镍的氧化物、钒的氧化物、钛钒的氧化物、钼的氧化物和钛的氧化物中的至少一种。玻璃基层10的厚度为2~19mm,第一透明导电层301的厚度为140~700nm,变色层302的厚度为30~100nm,锂离子导体层303的厚度为50~650nm,离子储存层304的厚度为200~400nm,第二透明导电层305的厚度为100~500nm。本发明实施例还提供电致变色玻璃1的制备方法,其包括以下步骤:在真空环境下利用靶材对玻璃基层10表面进行磁控溅射,依次溅射形成第一膜层201、第二膜层202、第三膜层203、第一透明导电层301、变色层302、锂离子导体层303、离子储存层304和第二透明导电层305。在另一实施例中,在溅射第三膜层203之前还包括以下步骤:在真空环境下利用靶材对第二膜层202的表面进行磁控溅射,依次溅射形成锆层204和氧化锆层205。优选地,该制备方法还包括:在第一透明导电层301形成过程中,对玻璃基层10进行加热,且加热温度为350℃~400℃;在变色层302形成过程中,对玻璃基层10进行加热,且加热温度为300℃~330℃;在离子储存层304形成过程中,对玻璃基层10进行加热,且加热温度为350℃~400℃;在第二透明导电层305形成过程中,对玻璃基层10进行加热,且加热温度为350℃~400℃。需要说明的是,在溅射第一透明导电层301和第二透明导电层305的过程中,对玻璃基层10加热后,第一透明导电层301和第二透明导电层305也会受热,并结晶形成增透或透明膜层,从而使得第一透明导电层301和第二透明导电层305具备更好的导电性能。在溅射变色层302的过程中,对玻璃基层10加热,能够使变色层302受热并形成不结晶的疏松结构。在溅射离子储存层304的过程中,对玻璃基层10加热,能够使离子储存层304的膜层结构更加稳定。优选地,该制备方法还包括:利用激光退火技术对电致变色玻璃1的膜层进行退火处理。具体地,利用高能量密度的激光束辐照电致玻璃1的膜层,从而引起被照区域的温度突然升高,达到快速退火的效果。激光退火能够修复电致变色玻璃中由于离子注入损伤的膜层材料。下面将结合具体实施例,对电致变色玻璃1的膜层结构、膜层厚度和制备方法,以及相应的效果进行说明。实施例1本实施例中,在真空环境下利用靶材对玻璃基层10表面进行磁控溅射,依次溅射形成第一膜层201、第二膜层202、第三膜层203、第一透明导电层301、变色层302、锂离子导体层303、离子储存层304和第二透明导电层305。电致变色玻璃1的膜层结构为:玻璃基层SiBNxCuSiBOxITOWO3LiTiVOxITO。其中,调色层组合层20的膜层结构为SiBNxCuSiBOx。SiBNx层的厚度为41nm,Cu层的厚度为3.3nm,SiBOx层的厚度为57nm。利用双极脉冲直流电源和中频交流电源配合双旋转阴极溅射调色组合层20。其中,在氩气和氮气混合气氛下溅射SiBNx层;在氩气氛围下溅射Cu层;在氩气和氧气混合气氛下溅射SiBNx层。在氩气气氛下,利用中频交流电源磁控溅射ITO靶来制备第一透明导电层301,第一透明导电层301的膜层厚度为295~460nm。沉积第一透明导电层301的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,加热温度为350℃~400℃。在氩气和氧气混合气氛下,利用中频交流电源反应磁控溅射钨靶制备氧化钨WO3层,并作为变色层302,变色层302的厚度为50~75nm。沉积变色层302的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,且加热温度为300℃~330℃。在氩气氛围下,利用双极脉冲电源磁控溅射旋转锂靶制备锂Li层,并作为锂离子导体层303,锂离子导体层303的厚度为315~415nm。在氩气和氧气混合气氛下,利用中频交流电源反应磁控溅射钒钛靶来制备氧化钒钛TiVOx层,并作为离子储存层304,离子储存层304的厚度为210~290nm。沉积离子储存层304的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,且加热温度为350℃~400℃。在氩气气氛下,利用中频交流电源磁控溅射ITO靶来制备第二透明导电层305,第二透明导电层305的厚度为215~360nm。沉积第二透明导电层305的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,加热温度为350℃~400℃。该电致变色玻璃1着色后,其玻面颜色L为32,a*为-1.64,b*为-1.83;膜面颜色L为39,a*为-5.99,b*为-4.52,颜色为中性色,U值为2.75。实施例2本实施例中,在真空环境下利用靶材对玻璃基层10表面进行磁控溅射,依次溅射形成第一膜层201、第二膜层202、第三膜层203、第一透明导电层301、变色层302、锂离子导体层303、离子储存层304和第二透明导电层305。电致变色玻璃1的膜层结构为:玻璃基层SiBNxCuSiBOxITOWO3LiTiVOxITO。其中,调色层组合层20的膜层结构为SiBNxCuSiBOx。SiBNx层的厚度为35nm,Cu层的厚度为3.6nm,SiBOx层的厚度为75nm。利用双极脉冲直流电源和中频交流电源配合双旋转阴极溅射调色组合层20。其中,在氩气和氮气混合气氛下溅射SiBNx层;在氩气氛围下溅射Cu层;在氩气和氧气混合气氛下溅射SiBOx层。在氩气气氛下,利用中频交流电源磁控溅射ITO靶来制备第一透明导电层301,第一透明导电层301的膜层厚度为295~460nm。沉积第一透明导电层301的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,加热温度为350℃~400℃。在氩气和氧气混合气氛下,利用中频交流电源反应磁控溅射钨靶制备WO3层,并作为变色层302,变色层302的厚度为50~75nm。沉积变色层302的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,且加热温度为300℃~330℃。在氩气氛围下,利用双极脉冲电源磁控溅射旋转锂靶制备锂Li层,并作为锂离子导体层303,锂离子导体层303的厚度为315~415nm。在氩气和氧气混合气氛下,利用中频交流电源反应磁控溅射钒钛靶来制备TiVOx层,并作为离子储存层304,离子储存层304的厚度为210~290nm。沉积离子储存层304的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,且加热温度为350℃~400℃。在氩气气氛下,利用中频交流电源磁控溅射ITO靶来制备第二透明导电层305,第二透明导电层305的厚度为215~360nm。沉积第二透明导电层305的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,加热温度为350℃~400℃。该电致变色玻璃着色后,其玻面颜色L为27,a*为-1.45,b*为0.49;膜面颜色L为26,a*为-5.8,b*为-4.7,颜色为灰色,U值为2.7。实施例3本实施例中,在真空环境下利用靶材对玻璃基层10表面进行磁控溅射,依次溅射形成第一膜层201、第二膜层202、第三膜层203、第一透明导电层301、变色层302、锂离子导体层303、离子储存层304和第二透明导电层305。电致变色玻璃1的膜层结构为:玻璃基层SiBNxCuSiBOxITOWO3LiTiVOxITO。其中,调色层组合层20的膜层结构为SiBNxCuSiBOx。SiBNx层的厚度为36nm,Cu层的厚度为3.0nm,SiBOx层的厚度为46nm。利用双极脉冲直流电源和中频交流电源配合双旋转阴极溅射调色组合层20。其中,在氩气和氮气混合气氛下溅射SiBNx层;在氩气氛围下溅射Cu层;在氩气和氧气混合气氛下溅射SiBOx层。在氩气气氛下,利用中频交流电源磁控溅射ITO靶来制备第一透明导电层301,第一透明导电层301的膜层厚度为295~460nm。沉积第一透明导电层301的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,加热温度为350℃~400℃。在氩气和氧气混合气氛下,利用中频交流电源反应磁控溅射钨靶制备WO3层,并作为变色层302,变色层302的厚度为50~75nm。沉积变色层302的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,且加热温度为300℃~330℃。在氩气氛围下,利用双极脉冲电源磁控溅射旋转锂靶制备锂Li层,并作为锂离子导体层303,锂离子导体层303的厚度为315~415nm。在氩气和氧气混合气氛下,利用中频交流电源反应磁控溅射钒钛靶来制备TiVOx层,并作为离子储存层304,离子储存层304的厚度为210~290nm。沉积离子储存层304的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,且加热温度为350℃~400℃。在氩气气氛下,利用中频交流电源磁控溅射ITO靶来制备第二透明导电层305,第二透明导电层305的厚度为215~360nm。沉积第二透明导电层305的过程中,需要对玻璃基层10进行加热,加热温度为350℃~400℃。该电致变色玻璃着色后,其玻面颜色L为32,a*为-1.53,b*为-5.11;膜面颜色L为41,a*为-6.03,b*为-7.61,颜色为浅蓝色,U值为2.8。剩余的实施例及实施例对应的效果不再一一赘述,具体请参阅表1所示。表1、不同实施例提供的电致变色玻璃的膜层结构、颜色和U值表2、不同对比例提供的电致变色玻璃的膜层结构、颜色和U值由对比例可知,无调色组合层的电致变色玻璃的U值较高,为3.4Wm2·K。而由实施例可知,本发明提供的电致变色玻璃,在其玻璃基层与电致变色层之间增设了调色组合层,其U值在1.8~3.36Wm2·K之间,相较于对比例,明显降低了U值,从而可提高电致变色玻璃的保温隔热效果。本发明电致变色玻璃U值的降低主要是因为调色组合层的第二膜层所包括的铜层、银层、铜银合金层等能够起到降低玻璃U值的作用。调色组合层还能起到调节电致变色玻璃的颜色的作用,使得电致变色玻璃通电后呈现灰色或者浅蓝色又或者浅绿色等颜色,而无调色组合层的电致变色玻璃通电后只能呈现蓝色或者黄色。另外,调色组合层的第一膜层和第三膜层分别设于第二膜层的两侧能够起到增加电致变色玻璃通电前的透光率的作用。本发明电致变色玻璃通电前后的颜色和透光率不同,用户可根据需求通过通电和断电来调节电致变色玻璃的颜色和透光率。以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

权利要求:1.一种电致变色玻璃,其特征在于,包括:玻璃基层;调色组合层,镀于所述玻璃基层的一侧,所述调色组合层中从靠近所述玻璃基层的一侧到相对的另一侧依次包括第一膜层、第二膜层和第三膜层,所述第一膜层包括氮化硅层和氮化硼硅层中的至少一种,所述第二膜层包括铜层、银层、铜银合金层、铜铝合金层、铜的氧化物层和铜铝复合氧化物层中的至少一种,所述第三膜层包括氧化硅层和氧化硼硅层中的至少一种;电致变色层,镀于所述调色组合层的背向所述玻璃基层的一侧,所述电致变色层中从靠近所述调色组合层的一侧到相对的另一侧依次包括第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层。2.如权利要求1所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述调色组合层的总厚度为5.3~300nm,其中所述第一膜层的厚度为3~120nm,所述第二膜层的厚度为0.3~40nm,所述第三膜层的厚度为2~140nm。3.如权利要求2所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述第一膜层的厚度范围为30~60nm,所述第二膜层的厚度范围为2~4.5nm,所述第三膜层的厚度范围为45~75nm,所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为1.3~1.4。4.如权利要求2所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述第一膜层的厚度范围为25~45nm,所述第二膜层的厚度范围为2~4.2nm,所述第三膜层的厚度范围为60~95nm,所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为2.12~2.14。5.如权利要求2所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述调色组合层中,所述第一膜层的厚度范围为25~46nm,所述第二膜层的厚度范围为1.5~3.8nm,所述第三膜层的厚度范围为35~60nm,所述第三膜层的厚度与所述第一膜层的比值范围为1.2~1.3。6.如权利要求1所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述调色组合层还包括锆层和氧化锆层,所述锆层镀于所述第二膜层的背向所述第一膜层的一侧;所述氧化锆层镀于所述锆层的背向所述第二膜层的一侧;所述第三膜层镀于所述氧化锆层的背向所述锆层的一侧。7.如权利要求6所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述调色组合层的总厚度为5~300nm,其中所述第一膜层的厚度为1.4~110nm,所述第二膜层的厚度为0.3~35nm,所述锆层的厚度为0.3~20nm,所述氧化锆层的厚度为1~15nm,所述第三膜层的厚度为2~120nm。8.如权利要求1至7任意一项所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述玻璃基层的厚度为2~19mm,所述第一透明导电层的厚度为140~700nm,所述变色层的厚度为30~100nm,所述锂离子导体层的厚度为50~650nm,所述离子储存层的厚度为200~400nm,所述第二透明导电层的厚度为100~500nm。9.一种电致变色玻璃的制备方法,用于制备如权利要求1至7任意一项所述的电致变色玻璃,其特征在于,所述制备方法包括:在真空环境下利用靶材对玻璃基层表面进行磁控溅射,依次溅射形成第一膜层、第二膜层、第三膜层、第一透明导电层、变色层、锂离子导体层、离子储存层和第二透明导电层。10.如权利要求9所述的电致变色玻璃的制备方法,其特征在于,在溅射第三膜层之前还包括以下步骤:在真空环境下利用靶材对第二膜层的表面进行磁控溅射,依次溅射形成锆层和氧化锆层。11.如权利要求9所述的电致变色玻璃的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:在第一透明导电层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为350℃~400℃;在所述变色层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为300℃~330℃;在所述离子储存层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为350℃~400℃;在所述第二透明导电层形成过程中,对所述玻璃基层进行加热,且加热温度为350℃~400℃。

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