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【发明授权】清洁装置、清洁腔室及其控制方法、半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202311405984.7 

申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

申请日:2023-10-26

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN117431522B

主分类号:C23C14/56

分类号:C23C14/56;C23C16/44;C23C14/54;C23C16/52;H01L21/67

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权;2024.02.09#实质审查的生效;2024.01.23#公开

摘要:本申请公开一种清洁装置。所公开的清洁装置包括箱体10、冷凝部20、加热器30和承载座40,箱体10具有容置空间13,冷凝部20和承载座40均位于容置空间13中,且冷凝部20位于承载座40的上方;承载座40用于承载待清洁物50;加热器30用于加热被放置于承载座40上的待清洁物50,以使待清洁物50的表面的沉积物升华后凝结在冷凝部20上。本申请还公开一种清洁腔室、清洁腔室的控制方法及半导体工艺设备。上述方案能解决相关技术通过人工对沉积在待清洁物上的沉积物进行清洁而存在工艺质量较差、工艺成本较高、工艺效率较低的问题。

主权项:1.一种清洁装置,其特征在于,包括箱体10、冷凝部20、加热器30和承载座40,其中:所述箱体10具有容置空间13,所述冷凝部20和所述承载座40均位于所述容置空间13中,且所述冷凝部20位于所述承载座40的上方;所述承载座40用于承载待清洁物50;所述加热器30用于加热被放置于所述承载座40上的所述待清洁物50,以使所述待清洁物50的表面的沉积物升华后凝结在所述冷凝部20上;所述清洁装置还包括用于支撑所述承载座40并带动所述承载座40进行升降的第一升降部62;所述加热器30的至少部分设于所述箱体10之内,所述加热器30的位于所述箱体10之内的部分围成导向空间,所述承载座40与所述导向空间导向配合;或者,所述箱体10的部分结构围成导向空间,所述承载座40与所述导向空间导向配合。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京北方华创微电子装备有限公司 清洁装置、清洁腔室及其控制方法、半导体工艺设备

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